Occasion SES MU-0712-01-02 #9284128 à vendre en France

SES MU-0712-01-02 etcher est un équipement de gravure ionique réactive haute performance développé par Semes Corp. spécifiquement conçu pour une utilisation dans les domaines de la physique et de la science des matériaux, MU-0712-01-02 utilise la technologie avancée de gravure ionique à pression atmosphérique. Cette technologie repose sur l'énergie libérée lorsqu'un faisceau d'électrons est induit avec un champ RF (radiofréquence). Ce procédé permet une gravure fine avec une énergie ionique très faible, donc idéale pour la gravure de dispositifs sensibles tels que les semi-conducteurs composés et les nanostructures. L'etcher est équipé de plusieurs caractéristiques qui en font l'outil parfait pour la physique et la science des matériaux. Les expériences peuvent être facilement configurées et ajustées à l'aide de l'interface utilisateur intuitivement conçue. L'équipement est également équipé de capacités de manipulation des plaquettes, y compris la cartographie des plaquettes, l'indexation alphanumérique de référence et l'étiquetage des codes-barres. Ceci permet d'aliquoter et d'identifier avec précision les plaquettes. Le système est également équipé de plusieurs caractéristiques de sécurité avancées qui assurent un fonctionnement fiable et sûr de l'etcher. L'unité est capable d'atteindre des débits élevés, grâce à son unité de contrôle de pression qui permet à l'graveur de fonctionner dans différentes plages de pression de gaz. Cette plage peut être ajustée manuellement ou automatiquement, selon les exigences de gravure. De plus, le moniteur de température sur la machine aide à contrôler l'homogénéité du procédé de gravure. SES MU-0712-01-02 utilise deux géométries différentes pour obtenir une gravure de précision, Through Focus Gaussian Beam et Off Focus Gaussian Beam. La première a une énergie ionique plus élevée que la seconde, ce qui permet une plus grande précision lors de la gravure. En outre, MU-0712-01-02 est équipé de trois modules de pompage différents : diffusion, turbo et cryogénique. Cette configuration permet d'optimiser le procédé de gravure pour différentes applications, en fournissant différents besoins en débit de gaz et en contrôlant précisément la pression de l'outil. De plus, les électrodes sur mesure à l'intérieur de l'graveur permettent une bonne uniformité de gravure et de faibles débits de pulvérisation. SES MU-0712-01-02 etcher est conçu pour un entretien facile et un fonctionnement peu coûteux, ce qui en fait un choix idéal pour les laboratoires, les universités et les installations de recherche. Ses caractéristiques hautes performances telles que des systèmes de sécurité robustes, des interfaces utilisateur intuitives et des capacités de gravure précises en font l'équipement de gravure parfait pour les environnements de recherche.