Occasion SEZ / LAM RESEARCH 101 #9246714 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH 101 est un graveur/asher, conçu et fabriqué par SEZ. Il s'agit d'un équipement de traitement chimique thermique conçu pour graver, déposer et planer rapidement et précisément les substrats avec une grande précision et précision. Le système est construit sur une atmosphère de gaz inerte et une plate-forme à température contrôlée avec isolation et contrôle de l'énergie au travail. SEZ 101 utilise une série de modules de processus pour réaliser des composants gravés et cendrés. Il s'agit d'une chambre d'interface, d'une chambre de gravure/cueillette et d'un module de réfrigérant. L'unité offre une gamme de paramètres programmables tels que la température, le débit, la pression et le temps. La température est maintenue à des niveaux prédéfinis pour obtenir une gravure cohérente des substrats. La chambre de gravure est l'élément clé de la machine. Il a plusieurs zones de refroidissement de l'air et d'uniformité de température (32 ° F sur 1,7 x 1,7 ") pour assurer un traitement thermique et chimique uniforme des substrats. Cette chambre est également équipée d'une source et d'un blindage plasma à haut débit. Pour assurer une gravure uniforme, une source RF stabilisée en fréquence est utilisée pour l'activation du plasma. La chambre d'interface est utilisée pour assurer le vide lors du chauffage du substrat et du contrôle du flux d'air. Il est équipé d'une source d'ions qui assure des vitesses de gravure uniformes. Le module de réfrigérant est conçu pour assurer un refroidissement cohérent de la chambre de gravure et du substrat. Il est équipé pour maintenir la température à des niveaux prédéfinis. Une entrée et une sortie programmables de gaz assurent un débit de gaz uniforme dans la chambre de procédé. LAM RESEARCH 101 est un outil de gravure/cueillette flexible, capable de travailler avec une variété de substrats, dont l'or, l'aluminium et le silicium. Avec ses taux de gravure élevés, son excellente homogénéité et sa répétabilité, 101 est une solution efficace pour de nombreux processus de gravure et d'ashing. L'actif est idéal pour une large gamme d'applications, allant de la fabrication MEMS au prototypage.