Occasion SEZ / LAM RESEARCH 203 #9246715 à vendre en France

SEZ / LAM RESEARCH 203
ID: 9246715
Taille de la plaquette: 4"-8"
Spin etcher, 4"-8" With chamber.
SEZ/LAM RESEARCH 203 Etcher/Asher est une machine de gravure de pointe utilisée pour créer des motifs et des circuits sur des plaquettes semi-conductrices. Il est similaire à un graveur traditionnel, dans lequel on applique à la surface de la plaquette un film mince de résine photosensible ou d'oxyde avant d'y graver un motif désiré. Cependant, le RESEARCH SEZ 203 est équipé d'un équipement unique de gravure assistée par laser, qui permet une meilleure précision, précision et complexité des conceptions. Le RESEARCH LAM RESEARCH 203 est conçu pour des opérations de production de haut volume et de haute précision et est livré avec une optique avancée, un logiciel et une configuration de chambre qui permettent une grande variété de paramètres de gravure. Il dispose d'une détection in situ assistée par laser et d'un support pour la surveillance et le contrôle des données. Pour créer des motifs, la machine commence par appliquer la photorésist ou le film d'oxyde désiré sur la plaquette, puis utilise un faisceau laser pour créer le motif désiré. Le motif peut alors être programmé dans le contrôleur laser de la machine, qui contrôle le mouvement, l'intensité et la puissance du faisceau laser pour tracer le motif désiré. Le faisceau est acheminé par une série d'éléments optiques modulés en énergie, qui le dirigent vers la région photomasquée de la plaquette. Une fois le motif cartographié, le faisceau laser est ensuite focalisé sur la pièce, éliminant sélectivement la photorésist ou le film d'oxyde dans un environnement contrôlé optimisé pour des résultats de travail propres. Le système RESEARCH 203 dispose également d'une unité de nettoyage automatisée avancée qui assure des conditions de travail propres avant chaque processus, améliorant ainsi la précision et la répétabilité des résultats. Pour réduire les déchets chimiques et matériels, la machine dispose également d'une bypass qui élimine le besoin d'air et/ou de gaz inertes lorsqu'elle travaille avec des polymères ne nécessitant pas de telles techniques. La RECHERCHE SEZ/LAM RESEARCH 203 est très polyvalente et peut être utilisée pour créer une grande variété de motifs et de caractéristiques sur tous les principaux matériaux semi-conducteurs. C'est une solution idéale pour les opérations de production à grande échelle et les établissements de recherche à la recherche de capacités de gravure avancées.
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