Occasion SEZ / LAM RESEARCH 223 #293772732 à vendre en France
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ID: 293772732
Style Vintage: 2005
Spin etcher, 8"
CDUS
FFU
Compressor
Power
2005 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 223 est un équipement de graveur/asher très avancé et polyvalent utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour l'enlèvement précis des matériaux des plaquettes semi-conductrices. Cet outil combine les capacités des processus de gravure et d'ashing, ce qui en fait un outil essentiel pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes avec une grande précision et uniformité. Au cœur de l'équipement SEZ 223 se trouve une technologie de gravure plasma sophistiquée qui permet l'enlèvement sélectif des matériaux de la surface de la plaquette. La gravure par plasma est un procédé de gravure à sec qui utilise un plasma, généralement créé à partir d'un mélange de gaz tels que l'oxygène, l'argon ou le fluor, pour éliminer sélectivement le matériau de la surface de la plaquette. Le plasma est généré dans une chambre à vide et dirigé vers la surface de la plaquette, où il réagit avec le matériau à graver, formant des sous-produits volatils qui sont retirés de la surface. Une des caractéristiques clés du système LAM RESEARCH 223 est sa capacité à assurer une gravure très uniforme sur toute la surface de la plaquette. Cela est obtenu par un contrôle précis des paramètres plasmatiques, tels que les débits de gaz, la puissance RF et la pression, ainsi que des systèmes avancés de manutention des plaquettes qui assurent une exposition constante de la plaquette au plasma. L'uniformité de la gravure est essentielle pour la fabrication des semi-conducteurs, car elle garantit que les dispositifs fabriqués sur la plaquette ont des propriétés électriques et des performances constantes. En plus de la gravure plasma, l'unité 223 intègre également des capacités de cendrage, permettant l'élimination des matériaux organiques et photorésistants de la surface de la plaquette. L'ashing est un procédé qui utilise le plasma d'oxygène pour décomposer les matières organiques en sous-produits volatils, qui sont ensuite pompés hors de la chambre. Cette étape est essentielle dans la fabrication des semi-conducteurs, car elle permet l'élimination des masques photorésistants utilisés dans le procédé de lithographie sans endommager le matériau semi-conducteur sous-jacent. La machine SEZ/LAM RESEARCH 223 est équipée de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour assurer le retrait précis et reproductible des matériaux de la surface de la plaquette. Cela inclut la surveillance en temps réel des paramètres clés du processus, tels que les débits de gaz, la température et la pression, ainsi que des systèmes de contrôle de la rétroaction en boucle fermée qui ajustent automatiquement les conditions du processus pour maintenir une performance optimale. Ce niveau de contrôle permet de personnaliser les processus de gravure et d'ashing pour répondre aux exigences spécifiques des différents procédés de fabrication de semi-conducteurs. En outre, l'outil SEZ 223 est conçu pour un débit et une fiabilité élevés, ce qui le rend adapté à la production de volume dans les installations de fabrication de semi-conducteurs. L'actif dispose d'une conception modulaire qui permet un entretien et un entretien faciles, minimisant les temps d'arrêt et assurant une productivité maximale. De plus, le modèle est équipé de dispositifs de sécurité et de contrôles environnementaux pour assurer le fonctionnement sécuritaire de l'équipement et la conformité aux règlements de l'industrie. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH 223 etcher/asher est un outil de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant des capacités avancées de gravure plasma et ashing, un contrôle précis des processus, un débit élevé et une fiabilité élevée. Sa polyvalence et ses performances en font un outil indispensable pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des rendements élevés et des performances cohérentes dans leurs processus de production.
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