Occasion SEZ / LAM RESEARCH 223 #293775131 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH 223 est un équipement de graveur/asher très avancé couramment utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système intègre une technologie de pointe et des caractéristiques innovantes pour fournir des processus de gravure et d'ashing précis et contrôlés nécessaires à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Principales caractéristiques : 1. Capacité de gravure plasma : L'unité SEZ 223 est équipée d'une source de plasma à haute fréquence radio (RF) qui génère un plasma très réactif pour graver les matériaux semi-conducteurs avec une grande précision et uniformité. Ceci permet d'enlever des couches ou des motifs spécifiques sur la surface de la plaquette, permettant une fabrication complexe du dispositif. 2. Contrôle de processus en plusieurs étapes : La machine offre des capacités de contrôle de processus en plusieurs étapes, permettant la personnalisation des séquences de gravure et de cendrage pour répondre aux exigences exactes de chaque processus de fabrication de semi-conducteurs. Cela garantit que les profils de gravure et les propriétés de surface souhaités sont atteints de façon cohérente sur toutes les plaquettes. 3. Détection de fin avancée : L'outil LAM RESEARCH 223 dispose d'une technologie de détection de fin avancée qui surveille les émissions plasmatiques ou d'autres indicateurs pour déterminer avec précision le point final du processus de gravure. Cette détection d'extrémité précise assure un contrôle optimal du procédé et évite la surgravure ou la sous-gravure des matériaux semi-conducteurs. 4. Conception et uniformité de la chambre : L'actif est conçu avec une chambre de processus de haute qualité qui fournit un excellent contrôle de la température de la plaquette, la distribution de gaz et l'uniformité du plasma. Cette caractéristique de conception garantit que les processus de gravure et de cueillette sont effectués avec une répétabilité et une cohérence élevées, ce qui conduit à une amélioration des performances et du rendement du dispositif. 5. Manutention et automatisation des plaquettes : le modèle 223 est équipé de capacités de manutention des plaquettes avancées et de fonctionnalités d'automatisation qui permettent le traitement à haut débit des plaquettes. L'équipement peut accueillir différentes tailles et types de plaquettes, permettant une fabrication efficace de dispositifs semi-conducteurs dans un environnement de production. 6. Système de distribution et de mélange de gaz : L'unité comprend une machine de distribution et de mélange de gaz sophistiquée qui permet un contrôle précis de la composition et des débits des gaz de gravure et de cueillette. Cette fonctionnalité assure des conditions de processus optimales et une uniformité lors des processus de gravure et de cueillette, conduisant à la fabrication de dispositifs de haute qualité. 7. Logiciel de surveillance et de contrôle des processus : L'outil SEZ/LAM RESEARCH 223 est exploité à l'aide d'un logiciel avancé de surveillance et de contrôle des processus qui permet de visualiser, d'analyser et d'ajuster les paramètres des processus en temps réel. Ce logiciel permet aux opérateurs d'optimiser les conditions de processus en vol, ce qui améliore l'efficacité des processus et la qualité des dispositifs. Dans l'ensemble, SEZ 223 est un outil de pointe qui offre des performances, une précision et un contrôle supérieurs dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ses fonctionnalités et capacités avancées en font un outil essentiel pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité dans des environnements de recherche et de production.