Occasion SEZ / LAM RESEARCH 323 #293632548 à vendre en France
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ID: 293632548
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Spin processor, 12"
Controller
Carrier station block, (4) FOUP
Process block
AC Power box
(2) Etchers
CDU
Temperature Control Unit (TCU)
Solvent supply system: (2) Tank auto supply systems with CSS
Direct drain
Heater tank
(4) SLQ-QT500 Flow meters
2003 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 323 etcher/asher est un équipement industriel de pointe utilisé pour la gravure et le cendrage de cartes de circuits imprimés, de dispositifs MEMS et d'autres composants semi-conducteurs. Il est conçu pour l'élimination rapide et précise des dépôts métalliques et autres résidus à la surface de la planche, à l'aide d'une solution de gravure spécialisée combinée à un asher de peroxyde de vapeur et d'hydrogène sous vide à grande vitesse. Le RESEARCH SEZ 323 etcher/asher dispose d'un certain nombre de fonctionnalités avancées et de capacités conçues pour maximiser la précision et la vitesse du processus de gravure. Il est doté d'une chambre de procédé brevetée à trois faces, hermétiquement scellée, alimentée par une source 500W pour assurer un rendement constant. Les processus intégrés de gravure sèche/propre et liquide/propre permettent l'élimination rapide du métal, de la résistance et d'autres matériaux à la surface de la planche. Le procédé de gravure/nettoyage obtient des résultats cohérents et reproductibles, tandis que le procédé de gravure/nettoyage liquide est capable d'enlever des couches de métal extrêmement minces et de résister. La RECHERCHE LAM RESEARCH 323 soutient également la technologie micropoints, permettant la gravure et le cendrage au niveau des plaquettes. Le module asher haute vitesse utilise le plasma H2O2 pour atteindre des niveaux de débit élevés avec un excellent contrôle et précision. Le RESEARCH 323 possède également son Système intégré de contrôle de la contamination de surface (ISCCS), breveté, qui suit les contaminants et ajuste les paramètres de gravure et d'ashing en temps réel pour assurer l'uniformité du dépôt. Il dispose également d'un filtre de retour d'eau intégré pour un entretien facile et la fiabilité. De plus, le RESEARCH SEZ/LAM RESEARCH 323 propose une variété d'options et d'accessoires pour personnaliser les opérations d'usinage des utilisateurs. Il a intégré des ports de communication pour les paramètres automatisés et la surveillance de l'état en temps réel. Il est hautement configurable et peut s'adapter à diverses exigences de production et conditions de processus. En outre, SEZ offre une large gamme d'excellents services de support pour garantir aux utilisateurs de tirer le meilleur parti de leur gravure/asher. Pour ses performances exceptionnelles, sa précision constante et sa facilité d'utilisation, SEZ 323 etcher/asher est un excellent choix pour les opérations de gravure et d'ashing au niveau industriel. C'est une solution fiable, efficace et rentable qui répond aux besoins des concepteurs de PCB et des ingénieurs semi-conducteurs.
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