Occasion SEZ / LAM RESEARCH 323 #9224055 à vendre en France
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ID: 9224055
Taille de la plaquette: 8"-12"
Style Vintage: 2012
Spin processor, 8"-12"
(2) Chambers
2012 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 323 est un graveur/asher hautement accompli spécialement conçu pour être utilisé dans diverses applications de production. Ce modèle est équipé d'un système avancé de transfert de couches qui fournit une grande précision pour le traitement avancé. Il est conçu pour la gravure plasma directe de haut rapport d'aspect via des couches de film mince polymère, résines et autres matériaux. La SEZ 323 est construite selon des spécifications extrêmement exigeantes et peut atteindre une précision de profil de 0,1 micron à 100 microns lorsqu'elle est utilisée avec un gabarit et un support compatibles. LAM RESEARCH 323 fournit un processus entièrement automatisé avec un gros mandrin de plaquettes pour jusqu'à 8 "de plaquettes. Le mandrin de la plaquette est équipé d'un étage RF mené en Z, d'un étage latéral mécanique, d'un porte-bouclier et de deux broches de levage. L'étage latéral mécanique facilite le transfert d'une seule ou mince couche tandis que le porte-blindage assure une répartition uniforme de l'énergie plasmatique. Le Lift Pin System aligne avec précision les substrats et élimine le déplacement des fenêtres sur les matériaux sensibles. 323 dispose d'un système avancé de gravure assistée par gaz qui élimine la nécessité d'une intervention manuelle et réduit la contamination. Le procédé très efficace utilise le plasma pour décomposer la couche de liaison polymère et la disperser dans l'atmosphère afin d'éliminer rapidement et facilement les motifs. Lors de la gravure nucléaire, la chambre de procédé maintient une atmosphère contrôlée qui produit une excellente micro-gravure de couches ultra minces. SEZ/LAM RESEARCH 323 dispose d'une interface utilisateur intuitive qui permet aux opérateurs de configurer la machine pour la vitesse du processus, le vide de la chambre et la vitesse de gravure. En outre, la surveillance de la pression et du débit de gaz en temps réel permet aux opérateurs d'ajuster les conditions en fonction des besoins de substrats ou de modèles spécifiques. Le graveur/asher a également une empreinte réduite et la taille de la chambre tampon, ce qui lui permet d'être facilement incorporé dans des systèmes restreints dans l'espace. SEZ 323 etcher/asher est un excellent choix pour une variété d'applications de production, offrant aux opérateurs des performances et une fiabilité inégalées. Ses fonctionnalités avancées permettent des niveaux intenses de personnalisation, permettant aux utilisateurs d'adapter la machine à leurs exigences de processus spécifiques. Avec un fonctionnement fiable et un transfert de couche précis, LAM RESEARCH 323 est un outil essentiel pour la production à haut volume, la production de prototypes et la recherche.
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