Occasion SEZ / LAM RESEARCH DV-34 #9233096 à vendre en France
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Vendu
ID: 9233096
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Single wafer processing system
Particle, polymer, & residue removal
Wafers
Wafer type: Standard
Wafer surface treatment
Cassette interfaces
(25) Wafers
Wafer robot (dual arm): BROOKS DBM-2406 V
Robot controller: BROOKS EDC-2400
Dual ceramic end effector
End effector size: 12
Options:
OHT (Over Head Transfer)
Light curtain
Ionizer: 5285e / 4630
No open cassette adapter
No wafer protrusion sensor (200mm)
No carrier ID reader (RFID)
No AGV
Process modules: 4 / 8 Chambers (L / R) 4 chambers
PSL-1 & PSL-2 (Left side):
Medium-1 arm (Standard): Chemical used
Medium-2 arm (Option): Chemical used
DIW Arm
Chuck (ADV pin)
Spindle & elevating units
PM I/O & Safety Box
No active jet nozzle
PSR-1 & PSR-2 (Right side):
Medium-1 arm (Standard): Chemical used
Medium-2 arm (Option): Chemical used
DIW Arm
Chuck (ADV pin)
Spindle & elevating units
PM I/O & Safety box
No active jet nozzle
Liquid / Chem supply cabinets (CHC1 / CHC2):
CHC1: (Standard & Dual tank)
Tank A:
Medium REZI38 Mix ratio / Temperature 25°C
Medium fill port, type: Auto fill
Medium paddle wheel
DIW Fill port, type: Auto fill
DIW Paddle wheel
Medium in-line filtration system
Sampling port
Buffer tank
Suckback valves
ULTRASONIC Flow meter
Tank B:
Used for chemical
Medium REZI38 Mix ratio / Temperature 25°C
Medium fill port, type: Auto fill
Medium paddle wheel
DIW Fill port, type: Auto fill
DIW Paddle wheel
Medium in-line filtration system
Sampling port
Buffer tank
Suckback valves
ULTRASONIC Flow meter
Dual in-line heater & cooler
No DI/O3 line
Process pump
No booster pump
Recirculation pump
Drain pump
CHC2:
System standard: (8) Chambers
System option: (4) Chambers
Tank A:
Medium paddle wheel
DIW Paddle wheel
No medium in-line filtration system
Sampling port
No buffer tank
Suckback valves
ULTRASONIC Flow meter
Tank B:
Medium paddle wheel
DIW paddle wheel
No medium in-line filtration system
Sampling port
No buffer tank
Suckback valves
ULTRASONIC Flow-meter
Dual in-line heater & cooler
No DI/O3 line
Process pump
No booster pump installed
Recirculation pump
Drain pump
CDS I/O & safety box
Separate drain
Chemical supply:
Med-1 Pre mix
Med-2 Pre mix
DIW
Option: HORIBA Chemical analyzer
Safety:
Earthquake protection
FM 4910 Compliant material
No main unit drip pan
No drip pan leak detection
Host control:
SECS II (HSMS)
No SECS II (RS232)
User interface:
Status lamp (R/Y/B/G)
Sound module
Front & back side UI (touch+keyboard)
Options:
Wafer handling robot display (CCD / Monitor)
Process chamber display
No dedicated backing pump
No XRD module
No ozone module
Transformer: 30 kVA
Transformer CE compliant (Input 208 Y)
No transformer CE compliant with GFI (Input 208 Y)
UPS
No entire system (30 kVA): In 400 VAC / Out 400 VAC
No control PC only (2 kVA): In 230 VAC / Out 230 VAC
No pre-etch thickness
No post-etch thickness
No target uniformity of etch
No backside surface conditioning
No rough finish
No polished finish
No front-side etch
No back-side etch
No backside etch & bevel clean
No oxide thinning / Removal
No nitride thinning / Removal
No polysilicon thinning / Removal
No bevel clean
No undercut
Missing parts:
(2) ECO Tune motors
(8) Dispenser motors
(2) Brake pin cylinders
(2) Dispenser nozzles
(2) VALVlE SAM-3250-NZD401FFI(12)
Drain pump
Filter
Power supply: 208 VAC, 20 kVA
Power Distribution Box (PDB)
CE Color code
No UL color code
2007 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH DV-34 est un graveur/asher haute performance qui offre le traitement de substrat le plus efficace et le plus fiable possible. Avec ses fonctionnalités avancées et une précision supérieure, cet outil est idéal pour de nombreuses applications différentes, de la pulvérisation et l'anodisation à la résistance à l'enlèvement et la lithographie. L'équipement de distribution de gaz de graveur/asher est conçu pour maximiser le débit tout en minimisant les dommages au substrat. Il fournit également un contrôle précis du débit de gaz et des paramètres de processus pour obtenir des résultats cohérents. La plaque de base rotationnelle de l'etcher/asher permet un traitement rapide du spin-and-go de tous les substrats jusqu'à 8 pouces de taille. Il dispose d'un système d'entraînement universel avec pression et débit réglables pour accueillir différents substrats et processus. En outre, son unité de distribution de gaz est réglable pour correspondre aux paramètres de processus nécessaires, permettant un contrôle précis lors de la gravure et de l'ashing. Il est également équipé d'une protection de chambre lors de la montée ou de la descente, en veillant à ce que l'équipement et les substrats restent dans l'état supérieur. Côté logiciel, SEZ DV-34 etcher/asher dispose d'une machine de contrôle flexible pour l'optimisation et la surveillance des processus avancés. Il offre une rétroaction en temps réel sur le débit de gaz et les conditions de chambre, ainsi que la notification d'alarme, l'arrêt automatique du temps, et les fonctions de télécommande. L'interface utilisateur est très intuitive et facile à utiliser, offrant une programmation et un contrôle de processus simples. Cela fait de LAM RESEARCH DV-34 un outil fiable et polyvalent pour de nombreuses applications différentes. Une grande uniformité, répétabilité et fiabilité font de DV-34 etcher/asher un excellent choix pour la recherche et la production de semi-conducteurs. Il est capable de réaliser des processus de gravure humide, de gravure sèche et de cendrage avec une précision maximale de 200 microns. Sa faible consommation d'énergie et ses diagnostics au niveau des outils en font un choix attrayant pour les environnements de production à haut débit, tandis que sa flexibilité et sa facilité d'utilisation en font également un excellent choix pour la recherche avancée.
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