Occasion SEZ / LAM RESEARCH DV-38 #9276819 à vendre en France

SEZ / LAM RESEARCH DV-38
ID: 9276819
Taille de la plaquette: 12"
Single wet etcher, 12" (8) Chambers.
SEZ/LAM RESEARCH DV-38 est un graveur et asher à haute résolution utilisé en photolithographie pour produire des micropatterns puissants et avancés. Il est utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour la création de transistors, qui sont les composants responsables de la production de signaux électroniques. Cet équipement cassette-à-cassette est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 200mm en une seule fois. Il comporte un étage de 6 axes pour assurer un alignement et un déplacement précis de la plaquette sur l'ensemble du processus. En outre, il est livré avec la dernière technologie de livraison de plasma et l'un des meilleurs systèmes de vide. Ce système est capable de fournir des photorésists propres et à grains fins. SEZ DV-38 est équipé d'un support d'unité de vide cryo-pompé qui assure de faibles niveaux de contamination de la plaquette pendant tout le processus. Il est également livré avec un réglage automatique de l'injection de gaz ainsi qu'un mélange de gaz de haute précision. Cet etcher et cet asher ont également un contrôle de source à longue distance qui peut faciliter la production de composants bien optiquement profonds. En termes de contrôle de processus, cette machine fournit un contrôle extrêmement précis sur les processus de gravure et de pattering. Les principaux avantages de l'utilisation de LAM RESEARCH DV-38 comprennent des temps de cycle courts et des résultats à très haute résolution. Cela en fait une solution idéale pour travailler avec des projets exigeants, comme pour les composants de microélectronique. Il est également compatible avec une gamme de matériaux, ce qui le rend idéal pour travailler sur une variété d'applications. En outre, il est livré avec un alignement couche à couche, des capacités de gravure tridimensionnelle, et la capacité de traiter plusieurs couches simultanément. En bref, DV-38 est un graveur avancé et asher pour produire des motifs photolithographiques. Ses caractéristiques fournissent précision et propreté, tandis que sa compatibilité avec une gamme de matériaux le rend idéal pour une utilisation généralisée. Son cycle court le rend également adapté aux projets les plus exigeants.
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