Occasion SEZ / LAM RESEARCH RST 201 #9394221 à vendre en France
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ID: 9394221
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Spin etcher, 8"
Process: Poly SiO2
Medium 2:
Chemical
(2) PILLAR PE-10MA Pumps
Heat exchanger: 1.6 kW / 80 CC Chilled water
Mixing type: Base chemical to level, spike secondary with dosing pump
Dosing pump size: 10 ml
Filter housing
Medium 3:
Chemical
(2) PILLAR PE-10MA Pumps
Heat exchanger: 1.7 kW / 80 CC Chilled water
Mixing type: Base chemical to level, spike secondary with dosing pump
Dosing pump size: 10 ml
No filter housing
N2 Flow: SCCM Monitored
Dispense:
Suck back: (2) Stages-valve to suck back valve, 3/8"
Medium 2: Analog flow monitor
Medium 3: Analog flow monitor
HMI: Rear
Static bar
Chuck type: Bernoulli (Standard)
(6) Spare parts
System safety equipment:
EMO Switch type: Turn to release EMO
EMO Guard ring
Chemical delivery options
Gem interface
CDS Unit
SUB Unit and spare part
Facilities:
N2
CDA
UPW
Exhaust
Vacuum
Power requirements:
Remote power module
Line voltage: 400V VAC Platform
Line frequency: 60 Hz
UPS: Computer
1996 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH RST 201 est un graveur/asher qui est utilisé pour des procédés chimiques soustractifs dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est une plate-forme fiable et performante utilisée pour la gravure de précision de divers matériaux tels que Si, SiO2, SiN, Polyimide et Metal. Le SEZ RST 201 dispose d'un équipement automatique de gestion des conteneurs de sources chimiques, d'une grande enveloppe de travail de 660 x 940 mm et d'une interface graphique couleur conviviale. Il est également livré avec un robot intégré pour le chargement et le déchargement faciles des plaquettes, ainsi que la technologie avancée d'analyse chimique. LAM RESEARCH RST 201 utilise un procédé de gravure très avancé qui permet de construire des géométries complexes avec rapidité et précision. Le processus de gravure est effectué dans une chambre propre et basse pression qui prévient les dégazages et minimise la contamination. Un système de mélange de gaz permettant d'ajuster le rapport des gaz de gravure et de protection aux besoins spécifiques d'une application est inclus. Il dispose également d'une pression variable qui augmente la vitesse du processus, réduit la contamination et l'usure, et augmente la qualité de la gravure. La norme RST 201 comprend une unité de commande d'outils sophistiquée, qui surveille et contrôle les fonctions clés de l'graveur/asher et surveille les paramètres du processus pendant la gravure. Cela garantit que le processus de gravure est maintenu et surveillé avec précision afin de maintenir la plus haute qualité du produit. Une conception de vide double chambre est également incluse, qui fournit un environnement de basse pression sous vide avec une basse pression de base et une pression arrière élevée, améliorant encore l'uniformité de gravure et la productivité. SEZ/LAM RESEARCH RST 201 est capable de réaliser la gravure humide, le procédé de gravure le plus couramment utilisé par l'industrie des semi-conducteurs aujourd'hui. Il est également apte à la gravure sèche, où les gaz chimiques réagissent avec la surface du matériau à graver. La machine a été conçue pour permettre la gravure rapide et précise de nombreux motifs de gravure, y compris des trous et des fentes. SEZ RST 201 est un graveur/asher idéal pour la gravure multicouche, la gravure et même les structures tridimensionnelles. Cet etcher/asher est hautement personnalisable et peut être utilisé pour créer des motifs complexes de différentes formes et tailles. Les fonctionnalités et fonctions améliorées de LAM RESEARCH RST 201, ainsi que son interface graphique conviviale, en font un outil inestimable pour ceux de l'industrie des semi-conducteurs.
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