Occasion SEZ / LAM RESEARCH RST 303 #293753981 à vendre en France

SEZ / LAM RESEARCH RST 303
ID: 293753981
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 1998
Spin etcher, 12" Single chamber 1998 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH RST 303 est un équipement de graveur/asher très avancé qui est largement utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs pour obtenir une gravure et une cueillette précises et contrôlées de divers matériaux. Ce système intègre une technologie de pointe et des fonctionnalités innovantes pour fournir des résultats de haute performance d'une manière fiable et efficace. Au cœur de l'unité SEZ RST 303 se trouvent ses capacités sophistiquées de gravure plasma et de cendrage, qui sont essentielles pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de dimensions nanométriques. La machine utilise une combinaison de la chimie du plasma, de la chimie des gaz et des contrôles de processus pour éliminer sélectivement le matériau de la surface d'un substrat avec une précision et une uniformité exceptionnelles. Une des caractéristiques clés de l'outil LAM RESEARCH RST 303 est sa flexibilité et sa polyvalence dans la manipulation d'un large éventail de matériaux et de structures d'appareils. L'actif est capable de graver et d'aspirer différents types de matériaux, dont le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, les films métalliques et les polymères, entre autres. Cette polyvalence permet aux fabricants de semi-conducteurs d'utiliser le modèle pour un ensemble varié d'étapes de processus dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'équipement RST 303 est équipé de capacités avancées de contrôle des processus qui permettent aux utilisateurs d'ajuster et d'optimiser avec précision les conditions de gravure et d'ashing pour différents matériaux et structures d'appareils. Le système dispose de mécanismes de suivi et de rétroaction en temps réel qui permettent un contrôle précis des paramètres clés du processus tels que les débits de gaz, la pression, la température et la puissance plasmatique. Ce niveau de contrôle assure des résultats reproductibles et reproductibles, conduisant à une reproductibilité élevée du procédé et au rendement du dispositif. En termes de performances, l'unité SEZ/LAM RESEARCH RST 303 offre des vitesses de gravure élevées et une excellente sélectivité, permettant un enlèvement rapide et précis du matériau avec des dommages minimes au substrat sous-jacent. La machine est conçue pour offrir une grande homogénéité sur toute la surface du substrat, assurant des performances et une fiabilité constantes du dispositif. De plus, l'outil peut accueillir des substrats de différentes tailles et formes, ce qui le rend adapté au traitement d'une large gamme de tailles de plaquettes semi-conductrices. L'actif SEZ RST 303 est également connu pour sa fiabilité et sa robustesse, avec un design qui met l'accent sur la stabilité à long terme et la disponibilité. Le modèle dispose de capacités de maintenance et de diagnostic avancées qui facilitent le dépannage rapide et l'entretien préventif, minimisant les temps d'arrêt et maximisant la productivité. En outre, l'équipement est facile à utiliser et à entretenir, avec des interfaces conviviales et des logiciels qui rationalisent le développement et l'optimisation des processus. Dans l'ensemble, le système LAM RESEARCH RST 303 représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir une gravure précise et contrôlée des matériaux dans leurs processus de fabrication. Avec ses capacités avancées, sa flexibilité et sa fiabilité, cette unité est bien adaptée à la production de dispositifs semi-conducteurs de pointe avec des performances et des exigences de qualité rigoureuses.
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