Occasion SEZ / LAM RESEARCH RST 304 #293753984 à vendre en France

SEZ / LAM RESEARCH RST 304
ID: 293753984
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Spin etcher, 12" Single wafer wet chemical processor 2005 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH RST 304 est un équipement de graveur/asher très avancé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement plasma de précision des matériaux. Ce système est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication de semi-conducteurs, offrant un haut niveau de contrôle de processus et de répétabilité. Au cœur de l'unité SEZ RST 304 se trouvent ses capacités avancées de gravure plasma et de cueillette. La gravure par plasma est un procédé clé utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour éliminer le matériau d'un substrat à l'aide d'ions chimiquement réactifs. La machine RST 304 de LAM RESEARCH utilise divers gaz tels que l'oxygène, le fluor et le chlore pour créer un plasma qui réagit chimiquement avec le matériau gravé, ce qui entraîne une élimination précise du matériau. La capacité d'aspiration du plasma de l'outil RST 304 permet d'éliminer les contaminants organiques des surfaces semi-conductrices. Les contaminants organiques peuvent nuire à la performance et à la fiabilité du dispositif, ce qui fait de l'aspersion de plasma une étape essentielle du processus de fabrication des semi-conducteurs. L'actif SEZ/LAM RESEARCH RST 304 est équipé d'une gamme de fonctionnalités de pointe qui permettent un contrôle et une optimisation précis des processus. Ces caractéristiques comprennent le contrôle avancé du débit de gaz, le contrôle de la température, la modulation de la puissance RF et la détection du point d'extrémité. Le contrôle du débit de gaz est essentiel pour atteindre le taux de gravure ou de cendres souhaité, tandis que le contrôle de la température assure un traitement uniforme sur la surface de la plaquette. La modulation de puissance RF permet un réglage précis de la densité et de l'énergie du plasma, optimisant les performances du processus. La détection du point final est utilisée pour déterminer avec précision quand le processus de gravure ou de cueillette est terminé, ce qui empêche la surgravure ou la sous-gravure. Le modèle SEZ RST 304 est très polyvalent et peut être utilisé pour une large gamme d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est couramment utilisé pour la gravure et le cendrage de matériaux diélectriques, de couches métalliques, de photorésist et d'autres matériaux utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement peut accueillir différentes tailles et types de plaquettes, ce qui le rend adapté aux environnements de recherche et de production. En plus de ses capacités de processus avancées, LAM RESEARCH RST 304 système est conçu avec la productivité et la fiabilité à l'esprit. Il dispose d'une unité de vide robuste pour la production et le traitement efficaces du plasma, ainsi que d'une interface conviviale pour un fonctionnement et un contrôle faciles des paramètres du processus. La machine peut être facilement intégrée dans les flux de travail existants de fabrication de semi-conducteurs, permettant un transfert et une optimisation de processus sans faille. Dans l'ensemble, l'outil RST 304 etcher/asher est une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui recherchent des capacités de traitement plasma performantes. Avec ses caractéristiques avancées, sa polyvalence et sa fiabilité, SEZ/LAM RESEARCH RST 304 établit une nouvelle norme pour la gravure de précision et l'ashing dans l'industrie des semi-conducteurs, permettant la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité avec des performances et une fiabilité améliorées.
Il n'y a pas encore de critiques