Occasion SEZ / LAM RESEARCH SP 102 #9312906 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH SP 102 est un graveur/asher de plasma polyvalent avec de nombreuses applications dans une gamme d'industries. Il est spécifiquement conçu pour manipuler une variété de substrats et peut être adapté à divers procédés, y compris la gravure, l'ashing et le dépôt de pulvérisateurs. La SEZ SP 102 dispose d'une chambre à vide d'une capacité maximale de 400 litres et peut être équipée d'un maximum de quatre ports de traitement. La chambre est alors reliée à une pompe à vide, un régulateur de débit massique, une pompe turbomoléculaire et un équipement d'échappement variable. Cela permet à LAM RESEARCH SP 102 de répondre aux exigences les plus élevées des processus de gravure et d'ashing modernes. Le système de contrôle de SP 102 permet de créer une variété de recettes prédéfinies adaptées aux besoins spécifiques du processus. Cette unité finement ajustée permet une gravure/cueillette de précision avec un chronométrage et un contrôle de température précis. Les gaz de procédé sont introduits directement dans la chambre au débit massique requis et le résultat est un processus propre et fiable. Tous les paramètres de traitement peuvent être réglés avec le contrôleur du panneau avant, comme la puissance de sortie du générateur RF/DC, la pression du processus et la fréquence du générateur RF/DC. SEZ/LAM RESEARCH SP 102 est équipé d'un viseur pour surveiller les phénomènes en chambre, et tous les systèmes de protection nécessaires, y compris un pare-étincelles et la surveillance du point d'extrémité, sont intégrés à la machine. En outre, SEZ SP 102 offre une variété de fonctionnalités conçues pour maximiser le débit et le rendement. Par exemple, un outil de nettoyage in situ avancé permet d'éliminer efficacement les résidus de processus, et une manipulation automatique du substrat permet de traiter plusieurs lots avec un minimum de temps d'arrêt. En conclusion, LAM RESEARCH SP 102 est un atout puissant et flexible pour la gravure et la cueillette du plasma, qui permet aux utilisateurs de manipuler une variété de substrats avec un réglage précis du temps et de la température. Il possède de nombreuses caractéristiques qui maximisent le débit et le rendement, ce qui en fait un choix idéal pour tous les types d'applications de gravure/ashing.