Occasion SEZ / LAM RESEARCH SP 201 #9174299 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH SP 201 est un équipement de graveur/asher à plasma conçu pour produire des procédés de couches minces de haute qualité. Le système est capable de traiter un large éventail de substrats, y compris l'aluminium, le cuivre, le silicium polycristallin, le nickel et d'autres matériaux habituellement utilisés pour la fabrication avancée de dispositifs microélectroniques. SEZ SP 201 utilise des techniques classiques de chimie des gravures, telles que la gravure ionique réactive (RIE), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et les technologies d'implantation ionique. L'unité dispose également d'une machine avancée d'alignement de plaquettes à base optique qui assure un contrôle précis des géométries de processus et des profils. LAM RESEARCH SP201 peut être configuré avec plusieurs chambres et chambres pour différents procédés, permettant ainsi le multitâche dans un environnement de production. Cette fonctionnalité permet à l'outil d'accomplir des tâches plus complexes sans augmenter les besoins matériels des actifs. La pression de la chambre dans SP 201 est maintenue à l'aide d'une série de vannes et de pompes à vide. La pression de vide est contrôlée par une jauge de précision, et le modèle est capable de créer une pression de vide de l'ordre de 10-5 Torr sur la plaquette. SP201 utilise des mélanges de gaz contenant un gaz inerte, tel que l'argon ou l'azote, combiné à un gaz réactif tel que l'oxygène ou le fluor. En établissant le bon débit massique de gaz, on peut obtenir une profondeur de gravure désirée. Les gaz sont contrôlés en temps réel au moyen de régulateurs de débit massique, qui assurent des vitesses correctes pour le processus de gravure. Les plaquettes sont maintenues sous forte polarisation négative lors de la gravure. Les plaquettes sont placées sur un châssis electrostatique et fixées de sorte qu'aucune vibration n'est créée pendant le processus de gravure. Enfin, LAM RESEARCH SP 201 contient un générateur RF de forte puissance qui crée un niveau élevé d'énergie radiofréquence. Cette énergie électrique est utilisée pour générer le plasma nécessaire à la réaction de gravure. En contrôlant les niveaux de puissance et les largeurs d'impulsions du générateur, on peut maintenir un contrôle précis du processus de gravure. En conclusion, SEZ/LAM RESEARCH SP201 est un équipement avancé de graveur/asher conçu pour produire des procédés de couches minces de haute qualité. Le système est bien adapté aux environnements de production et offre un contrôle de la profondeur de gravure, de l'alignement des plaquettes de précision et de la pression de la chambre. L'unité utilise des gaz inertes et réactifs, un chuck electrostatique et des générateurs RF de grande puissance pour une gravure efficace.