Occasion SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9228170 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH SP 203 est un équipement avancé de gravure RIE (Reactive-Ion) conçu pour la production et le développement de structures micromachines de surface complexes. Ce système de gravure polyvalent est capable de graver presque n'importe quelle surface, y compris celles des matériaux durs et souples. Il est doté d'une source de plasma avancé (APS) très performante et dotée d'un puissant mélange de gaz et de deux sources atomiques indépendantes qui le rendent capable de gravure isotrope et anisotrope. De plus, la SEZ SP 203 est équipée d'une puissante source Electron Cyclotron Resonance (ECR), offrant une homogénéité et une sélectivité exceptionnelles dans le processus de gravure. LAM RESEARCH SP 203 est idéal pour la gravure de haute précision de divers matériaux, y compris les matériaux semi-conducteurs tels que le silicium, l'arsenide de gallium, le SiC, le GaN et l'InGaAs, et les diélectriques tels que le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, le polyimide, le poly-silicium et le verre. Cette unité de gravure avancée peut également être utilisée pour la gravure de métaux tels que l'aluminium, le titane et d'autres matériaux utilisés dans la fabrication de dispositifs MEMS (micro-systèmes électromécaniques). La machine est équipée d'un filtre de confinement des cendres (ACFS) de pointe pour la gravure et la filtration des déchets. Cet ACFS très efficace offre des opérations de gravure améliorées avec moins d'empreinte environnementale, des coûts réduits et un meilleur contrôle des processus. La SP 203 est également capable de contrôler les processus par l'intermédiaire de contrôleurs avancés et d'actifs de surveillance. Ce modèle de surveillance avancé peut être utilisé pour surveiller et analyser les performances de l'équipement de gravure. SEZ/LAM RESEARCH SP 203 est également équipé d'une interface utilisateur à écran tactile LCD conviviale pour un fonctionnement et un réglage simplifiés des paramètres de gravure. En outre, ce système de gravure avancé est compatible avec le logiciel ESISEZ, permettant aux utilisateurs de surveiller et de contrôler tous les aspects du processus de gravure et d'analyser les résultats du processus. Avec sa source de plasma avancée, son unité de filtration des déchets ACFS robuste, sa machine de surveillance des processus très efficace et son interface conviviale, le SEZ SP 203 est un outil de gravure puissant idéal pour la production et le développement de structures microfabriquées.