Occasion SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9276814 à vendre en France

SEZ / LAM RESEARCH SP 203
ID: 9276814
Taille de la plaquette: 6"-8"
Spin etcher, 6"-8".
SEZ/LAM RESEARCH SP 203 est un graveur/asher utilisé pour l'enlèvement de précision de matériaux de la surface d'une gamme de substrats incluant des métaux durs, des alliages et des plaquettes de silicium recouvertes. Plus précisément, l'équipement est équipé d'une source ICP (Inductively Coupled Plasma), qui utilise une décharge haute fréquence pour créer une gravure ou un processus de cueillette. Les résultats sont cohérents, précis et facilement reproductibles sur plusieurs parcours. Le puissant ICP Source produit des taux de gravure jusqu'à 8 000 angströms/minute avec un excellent profil de surface. En outre, le système est capable d'accumuler jusqu'à 10 minutes de temps de gravure et peut également atteindre des températures allant jusqu'à 1000 degrés Celsius. L'unité est capable de contrôler automatiquement le processus de gravure avec une interface utilisateur simple. Il est équipé d'un module de contrôle de processus, qui dispose d'une interface utilisateur graphique pour faciliter la programmation des paramètres de temps et de température de gravure. En analysant les résultats de chaque processus de gravure, la machine peut rapidement déterminer et contrôler les paramètres de processus optimaux pour des matériaux spécifiques. L'outil est conçu avec de multiples caractéristiques de sécurité, y compris une barrière physique entre le plasma et l'opérateur, ainsi qu'un protecteur intégré et un boîtier de panache d'échappement. Avec une construction en acier inoxydable durable et une atmosphère inerte, l'actif est idéal pour une utilisation dans n'importe quel environnement de laboratoire. SEZ SP 203 est idéal pour des applications de gravure et de cendrage très précises. Avec sa conception robuste et conviviale, le modèle est inestimable pour aider les laboratoires à réaliser des processus de gravure et d'ashing efficaces et précis. C'est un graveur/asher fiable et puissant pour tout environnement de laboratoire.
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