Occasion SEZ / LAM RESEARCH SP 223 #293655016 à vendre en France

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ID: 293655016
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Spin processor, 8" (2) Chambers (P223) 2001 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 223 est un graveur/asher sophistiqué utilisé dans l'industrie électronique pour la gravure et la cueillette de masques et plaquettes de photolithographie haute résolution. Il s'agit d'un équipement de traitement par lots en parallèle capable de traiter jusqu'à quatre plaquettes simultanément. SEZ SP 223 dispose d'un commutateur actif/inactif qui permet à l'utilisateur de basculer entre les processus. Le graveur/asher a deux chamberse, chacun avec sa propre source de plasma, système de distribution de gaz et chambre de gravure/cendres. Les chambres sont reliées à un processeur à plasma qui contrôle la pression, le débit de gaz, la fréquence du générateur RF et d'autres paramètres du procédé. Les paramètres du processus sont dérivés de recettes prédéfinies, stockées dans la mémoire de l'unité. La machine LAM RESEARCH SP 223 est conçue pour graver/graver des photomasques à une résolution inférieure à 1 micron. Des résolutions élevées sont obtenues grâce à l'actif de contrôle de chambre de l'outil, qui maintient un environnement contrôlé avec précision et assure une gravure/cueillette précise. En outre, le modèle offre deux recettes distinctes qui peuvent être utilisées pour graver/cendre un seul masque dans un processus. L'équipement dispose également de protections intégrées conçues pour minimiser les dommages causés par les gravures et les cendres. Les boucliers plasma du système, l'unité de distribution à faible volume et la machine de prévention des accidents sont conçus pour protéger le masque ou la plaquette en cours de traitement contre les surgravures, l'exposition à l'hydrogène ou à d'autres agents nocifs et d'autres risques potentiellement dangereux. SP 223 est un graveur/asher robuste et fiable qui offre un contrôle précis et des performances élevées à un coût abordable. C'est le choix parfait pour tous ceux qui ont besoin d'une façon cohérente de traiter leurs masques et plaquettes de photolithographie avec précision et rapidité.
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