Occasion SHIBAURA HCIIW-I-WSU-L #9382336 à vendre en France

SHIBAURA HCIIW-I-WSU-L est un équipement de gravure plasma utilisant la technologie de gravure ionique réactive sèche (RIE). Ce système est construit avec une chambre hybride, une alimentation haute fréquence et une alimentation en gaz chlore. Le graveur hybride combine les avantages d'un PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) et d'un graveur RIE. L'graveur hybride permet le dépôt de revêtements protecteurs puis la gravure de matériau sous-jacent. Le procédé PECVD utilise des plasmas formés par l'alimentation haute fréquence pour graver des micro-structures sur divers substrats tels que les plastiques, les métaux ou le verre. D'autre part, le procédé RIE utilise la qualité médicale Cl2 (gaz de chlore) pour graver/graver des matériaux jusqu'à un niveau inférieur au micron. Le processus RIE est idéal pour les motifs de photomasques, les conceptions de circuits intégrés, et plus encore. HCIIW-I-WSU-L utilise une unité de contrôle de pression unique pour maintenir la vitesse de gravure et la pression requises à l'intérieur de la chambre de réaction. La chambre à vide est conçue pour pouvoir subir des pressions de pression de 2 × 10 ^ -2 Torr à 133 mTorr avec une température maximale de 200 ° C La machine peut atteindre une vitesse de gravure de base allant jusqu'à 500 Angströms/minute sur une large gamme de matériaux dont le silicium, le quartz et d'autres matériaux diélectriques. Le processus de gravure est contrôlé par un logiciel intégré propriétaire, permettant des contrôles manuels et automatiques selon les besoins de l'utilisateur. De plus, le logiciel embarqué permet d'écrire et de stocker plusieurs recettes de gravure. La recette de gravure peut être optimisée par l'utilisateur et ajustée pour correspondre au motif de gravure souhaité, le taux de gravure, et la répétabilité. L'outil SHIBAURA HCIIW-I-WSU-L est un atout polyvalent idéal pour le prototypage rapide et la production de masse. Il est idéal pour la conception de circuits intégrés, la fabrication de photomasques et d'autres applications de haute technologie nécessitant des résultats précis de gravure/gravure. Ce modèle etcher est fiable, précis et facile à utiliser.