Occasion SPI Plasma Prep II #293617060 à vendre en France

SPI Plasma Prep II est un graveur/asher conçu pour la gravure de précision ou la cueillette d'échantillons dans un certain nombre d'applications, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication pharmaceutique, l'analyse sur le terrain, ainsi que la recherche et le développement. La polyvalence de ce dispositif garantit qu'il peut répondre aux besoins d'une variété d'applications de gravure/ashinig. L'équipement se compose d'un générateur RF de grande puissance, d'une chambre à plasma, d'un système de refroidissement liquide, d'une pompe à vide et d'un automate de traitement. L'appareil est conçu pour fournir une répétabilité et une précision maximales à chaque gravure ou processus de cueillette. L'unité est conçue avec des protocoles de sécurité et des caractéristiques telles que des connexions RF isolées et un verrouillage de porte de sécurité qui empêche l'exposition accidentelle à des niveaux de RF dangereusement élevés. Le générateur RF haute puissance fournit l'énergie qui entraîne le processus de gravure et de cueillette. Le générateur de plasma a la capacité de moduler la puissance de 0-500 Watts. La fréquence du générateur de plasma peut également être facilement ajustée pour répondre aux besoins d'une direction de gravure/cueillette spécifique. L'échantillon gravé/cendré est placé à l'intérieur de la chambre à plasma. Cette chambre est destinée à maintenir un environnement de pression stable pour l'échantillon et à contenir le plasma généré. La chambre dispose d'un grand port de visualisation qui permet à l'utilisateur d'observer visuellement le processus de gravure/cueillette. La chambre est entourée d'une machine de refroidissement liquide qui élimine la chaleur résiduelle et maintient la température de fonctionnement sûre de l'outil. La pompe à vide de l'actif est chargée d'éliminer les particules indésirables, ainsi que de dissiper l'hydrogène et l'oxygène générés par le processus plasmatique. Cette fonctionnalité permet au modèle de fonctionner de manière propre et efficace et maximise la précision de gravure/cueillette. Le contrôleur de processus automatisé permet à l'utilisateur de programmer facilement les paramètres de gravure/ashing désirés du processus. Il est conçu pour communiquer avec la chambre et le générateur de plasma pour fournir une rétroaction précise du processus afin d'assurer une répétabilité maximale. Plasma Prep II est un équipement fiable et robuste qui est conçu pour la gravure de précision et la cueillette d'échantillons dans une variété d'applications. Il comprend des protocoles de sécurité avancés, des capacités RF de grande puissance, un environnement de pression stable, un système de refroidissement avancé, une pompe à vide efficace et un contrôleur de processus automatisé. L'unité est très fiable et le choix parfait pour une large gamme de processus de gravure et d'ashing.