Occasion SPTS LPX APS Pro #9294793 à vendre en France
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Vendu
ID: 9294793
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2014
Etcher, 8"
Single chamber (Aluminium)
Load-locked
Capable, 8"
Process chamber: APS PM
APS PM Chamber:
SiC / GaN
Oxide
Nitride
Deep oxide
Glasses
Sapphire
PZT / Pt
LPX Single Wafer Load Lock
Multiplex ICP process chamber:
Magnetic and heated chamber
LEYBOLD Turbo pump
Heated VAT pendulum valve
Backside helium cooling
Extracted gas box with orbitally welded gas lines
Electronics Rack
LCD flat panel monitor
MKS Capacitance manometer (0.1 Torr)
MKS Spectrum RF generator (Source)
MKS Spectrum RF generator (Bias)
VERITY optical endpoint detector
EDWARDS iH80 vacuum pump (or equivalent)
ALCATEL ACP28 vacuum pump (or equivalent)
SMC Thermo chiller
System cables
Gas box: N2, SF6, He, Ar, O2
Operations manuals
Electrical drawings
Documentation (Complete manual set)
System power: 400 V, 80 A, 50 Hz, 3 PH+N
2014 vintage.
SPTS LPX APS Pro est un équipement avancé de gravure et de cueillette de plaquettes spécialement conçu pour la recherche et les applications industrielles. Le système se compose d'une plate-forme SmartProcess™ avancée avec les dernières technologies tant à la fin de devant en chargeant qu'à en déchargeant et dans - situ la commande du processus et la surveillance. L'unité est conçue pour être très fiable, rapide et efficace, offrant une convivialité, une évolutivité et une flexibilité exceptionnelles. Ses principales caractéristiques sont les suivantes : Haute efficacité de gravure et de cueillette - La machine est équipée d'un générateur de plasma avancé et de systèmes de mélange de gaz avancés qui fournissent une précision et un contrôle supérieurs sur les processus de gravure et de cueillette. Cela permet aux utilisateurs d'obtenir un meilleur débit avec moins d'itérations et des délais de traitement plus courts. SmartProcess™ plate-forme - L'outil est équipé d'une plate-forme avancée d'automatisation des processus qui permet aux utilisateurs de personnaliser leurs paramètres et paramètres de processus. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser l'actif pour leurs besoins spécifiques et de maximiser l'efficacité et les performances. Contrôle et suivi des processus in situ - Le modèle est équipé d'un puissant équipement de contrôle des processus qui assure la surveillance et le contrôle en temps réel des processus de gravure et d'ashing. Cela permet aux utilisateurs d'identifier rapidement tout problème potentiel et d'ajuster leurs paramètres de processus en conséquence. Polyvalence - Le système est très polyvalent et peut être utilisé avec différents types de plaquettes, comme le silicium, le silicium sur isolant (SOI), l'épitaxial et l'arséniure de gallium (GaAs). De plus, l'unité peut être utilisée pour un large éventail d'applications telles que la lithographie, la gravure ionique réactive profonde (DRIE) et le broyage ionique. Facile à utiliser - La machine dispose d'une interface conviviale intuitive qui permet aux utilisateurs de configurer rapidement et facilement leurs processus. En outre, l'outil comprend également une documentation complète et du matériel de formation qui permettent aux utilisateurs de maîtriser l'actif rapidement et facilement. Ingénierie de haute précision - Le modèle est conçu avec une ingénierie de haute précision pour une précision et un contrôle supérieurs. En outre, il est également conçu pour une durée de vie prolongée et des coûts d'entretien minimes. Évolutivité - L'équipement est conçu avec des composants modulaires qui peuvent être facilement configurés pour créer des systèmes de gravure et d'ashing plus grands et plus complexes. Dans l'ensemble, LPX APS Pro est un système de gravure et d'ashing avancé qui combine des technologies de pointe avec une ingénierie de haute précision pour une efficacité, des performances et une précision optimales. Il convient à la fois à la recherche et aux applications industrielles et est conçu pour être très fiable, rapide et facile à utiliser.
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