Occasion STS / CPX Multiplex ASE ICP #9147808 à vendre en France

STS/CPX Multiplex ASE ICP (Inductively Coupled Plasma) est un graveur/asher utilisé dans la production et la fabrication de puces de circuits intégrés (IC) et d'autres dispositifs ou composants microélectroniques. Il s'agit d'un outil de micro-fabrication de haute précision utilisé pour créer des caractéristiques ultra-fines sur des surfaces semi-conductrices, comme des puits de chaleur en cuivre ou en or. STS Multiplex ASE ICP fonctionne en ionisant un gaz approprié à l'intérieur d'une chambre à vide ou chambre de procédé. Ce gaz est ionisé par induction à l'intérieur de la chambre, ce qui crée un plasma à partir des particules de gaz. Ce plasma est ensuite utilisé pour graver ou « graver » de petites caractéristiques précises du substrat cible. La technologie ICP peut être utilisée pour diverses applications qui comprennent : la fixation précise des éléments sur une surface semi-conductrice, la planarisation des vias et des contacts dans des structures segmentées, la gravure des couches isolantes et la fixation précise de la couche de semence de cuivre. Le CPX Multiplex ASE ICP présente un large éventail de caractéristiques, ce qui en fait un choix intéressant dans de nombreux processus de microfabrication. Ce graveur a une grande précision de production avec une vitesse de retour de gravure unique de 500 nm par seconde avec 0,25 μ m de résolution. Il est équipé d'un équipement de balayage multi-axes très précis avec une résolution programmable de 16 bits, ce qui permet d'établir des caractéristiques précises dans les axes x-y et z pour des géométries complexes. L'outil est compatible avec une variété de tailles et de matériaux de plaquettes, y compris le quartz, le silicium, l'aluminium et les substrats GaAs. En outre, il est également équipé d'un système d'affûtage sous vide, qui permet un processus de gravure précis avec un temps de processus réduit. Cela fait du Multiplex ASE ICP un choix idéal pour les processus par lots à haute performance et à haut débit. En conclusion, STS/CPX Multiplex ASE ICP est un outil de haute précision capable d'obtenir une gravure et une cendre de haute précision. Son large éventail de caractéristiques et sa compatibilité d'application en font un choix souhaitable pour de nombreux procédés de fabrication de semi-conducteurs. Son unité de balayage très précise et sa machine d'affûtage sous vide sont également des caractéristiques clés qui font de cet outil un choix fiable et efficace pour les procédures de microfabrication.