Occasion STS / CPX Multiplex ASE #9118795 à vendre en France

STS/CPX Multiplex ASE est un asher/graveur avancé conçu pour fournir une gravure efficace et fiable de plasma d'azote et d'oxygène dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs et les applications connexes. Il s'agit d'un équipement à chambre unique qui permet l'utilisation de gaz azotés (N) ou oxygénés (O) pour la gravure ionique réactive (RIE). Le système est adapté à la fois pour la production de petits lots et de grands volumes, offrant d'excellentes performances, précision et répétabilité. L'unité se compose d'une chambre de traitement évacuée avec un générateur RF monté à l'extérieur qui fournit jusqu'à 6000 watts de puissance. Il est construit avec un générateur RF découplé qui aide à maintenir des propriétés de gravure uniformes sur des plaquettes de différents types et diamètres. Le générateur RF est également capable de fournir jusqu'à 1000 volts, lui permettant d'exécuter des processus à des pressions plus élevées (jusqu'à 5 torr) et avec des taux de gravure plus élevés. STS Multiplex ASE comprend une machine polyvalente d'injection de gaz avec une plage de débit de 0 à 300 ml/min, lui permettant de manipuler à la fois des gravures sèches et humides. L'outil est capable de manipuler toutes les chimies de gravure standard, telles que CF4, CHF3, C4F8, CH2F2, Ar, He et SF6. Sa livraison de gaz est extrêmement efficace et économique, avec un gaspillage minimal et aucune contamination chimique. Le CPX Multiplex ASE est équipé d'un contrôleur de pression numérique intégré, permettant à l'utilisateur de contrôler précisément la pression de la chambre. Il dispose également d'un outil intégré de régulation de température de haute précision qui garantit que les températures des échantillons restent stables et exactes pendant le traitement. Une fonction d'enregistrement automatisé des données enregistre tous les paramètres pertinents du processus, tels que les débits de gaz, les pressions de la chambre, les niveaux de tension et les températures de l'échantillon. Cela garantit la traçabilité et la répétabilité des conditions de processus. Enfin, une caractéristique unique de « vue » de la chambre permet à l'utilisateur de voir l'intérieur de la chambre depuis l'extérieur de l'unité, ce qui facilite le contrôle des conditions de la chambre et de l'échantillon. Le modèle est également conçu pour être compatible avec la plupart des équipements périphériques, tels que les pompes à vide, les générateurs RF et les régulateurs de température. En conclusion, Multiplex ASE est un asher/graveur avancé conçu pour une gravure plasma efficace et fiable des substrats semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement intégré à chambre unique doté d'un système polyvalent d'injection de gaz, d'une unité de régulation de température de haute précision, d'une journalisation des données et d'une interface utilisateur facile à utiliser. Il convient à la fois à la production en petits lots et en grands volumes, et est un choix fiable et économique pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs.