Occasion STS Pegasus DRIE #293596360 à vendre en France

STS Pegasus Deep Reactive Ion Etcher (DRIE) est un graveur/asher de production robuste et performant qui est capable de fournir des processus de gravure d'ions réactifs profonds (DRIE) pour créer précisément des caractéristiques avec des rapports d'aspect verticaux élevés. La source plasmatique de STS Pegasus DRIE etcher produit des ions très énergétiques dirigés avec précision vers la surface de la pièce. Ces ions très énergétiques sont utilisés pour graver les zones ciblées d'un substrat, tandis que l'écran de paroi en graphite est utilisé pour protéger d'autres zones du processus de gravure. Au cœur du tranchant de Pegasus DRIE la technologie est une alimentation électrique de haut voltage et un puissant 2.45GHz la source de plasma à micro-ondes. Sa source avancée, spécialement conçue pour les procédés DRIE, produit plusieurs espèces d'ions avec une grande efficacité d'utilisation du gaz. L'équipement est construit en utilisant tous les contrôleurs numériques couplés avec des algorithmes sophistiqués pour le contrôle des processus, permettant aux utilisateurs de surveiller et de contrôler leurs recettes en temps réel. L'alimentation électrique de STS Pegasus DRIE etcher est spécifiquement conçue pour fournir des recettes de processus efficaces et reproductibles avec une précision exceptionnelle. Des variables telles que la température de la chambre, la pression et la puissance sont gérées avec précision dans le protocole de traitement des polymères. En outre, Pegasus DRIE etcher est équipé d'un DCMS, un ensemble de caractéristiques de sécurité spécifiques qui contribue également à la précision du processus de gravure. Cela comprend un système de différentiel à double pression qui mesure la pression entre la chambre de procédé et la ligne d'échappement et l'unité d'arrêt automatique qui arrête le processus lorsqu'elle détecte un différentiel de pression excessif. STS Pegasus DRIE etcher est bien adapté pour une grande variété de substrats dont le silicium, le quartz, le verre, la céramique et d'autres matériaux. Cette plate-forme multi-substrat offre un maximum de compatibilité pour diverses conceptions de produits. L'etcher supporte une large gamme de tailles de fonctionnalités et est capable de contrôler finement les profils de gravure ainsi que les rapports d'aspect élevés. L'ensemble de la machine est suffisamment flexible pour traiter une variété d'applications telles que les substrats à grande surface, les substrats à petite surface, y compris les plaques, les plaquettes et même les matériaux durs non poreux, y compris les métaux et le verre. Dans l'ensemble, Pegasus DRIE est l'outil de gravure le plus fiable et le plus avancé pour des processus de gravure ionique réactifs en profondeur. Avec sa source avancée, son alimentation électrique et ses caractéristiques de sécurité, les utilisateurs peuvent obtenir un maximum de précision et de précision avec leurs recettes de processus, ainsi que des résultats fiables et reproductibles.