Occasion STS Pro ICP #293605254 à vendre en France
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Vendu
ID: 293605254
Taille de la plaquette: 6"
Advanced Oxide Etcher (AOE), 6"
Inductively Coupling Plasma (ICP)
Backside helium cooling
8-Pins clamp
Lip seal
Masks: Si, PR, Metals (Cr, Ti, Ni)
Gases: C4F8, SF6, O2, H2, CF4, (2) Open gas slots
Process pressure: 2-80 mT
Substrate size: 6"
Temperature range:
Platen: -20°C to 120°C
Walls: 100°C
Lid: 120°C
Materials etched:
SiO2
Quartz
Pyrex
Fused silica
Si3N4
Bulk silicon
Capabilities:
2.5 µm on 8-10 µm TEOS
Etch rate: >2000 A/min SiO2, >4:1 selectivity
SiO2: PR
Inter wafer: ±3%
5 µm on 3-10 µm SiO2
Etch rate: >3000 A/min SiO2, >7.5:1 selectivity
SiO2: PR
Inter wafer: ±2%
Power supply:
ADVANCED ENERGY Coil: 3000 W, 13.56 MHz
ENI Platen: 1000 W, 13.56 MHz.
STS Pro ICP est un graveur/asher avancé qui est bien adapté aux applications ICP (Inductively Coupled Plasma). Il est spécialement conçu pour fournir des capacités de gravure précises, efficaces et expansives avec des temps de gravure ultra-rapides et un contrôle étroit des paramètres critiques du processus. Pro PCI dispose d'une table de gravure active de 12 « x 13 » (environ 30,48 cm x 33,02 cm), avec un graveur de soupapes à fente modifiée permettant de contrôler les gaz de procédé et la pression de l'étape de gravure. La table de gravure est équipée de la surveillance complète de la caméra de fond pour permettre un contrôle précis du processus. Une caractéristique ajoutée de cet etcher sont les capacités « bake-in » du haut de table fournissant le contrôle thermique du processus pour une gamme complète de processus de gravure. Le cœur de STS Pro ICP est l'ensemble RF Generator et ICP source. Cet ensemble comprend également le réseau d'adaptation de la charge et des condensateurs motorisés réglables de puissance pour assurer un contrôle précis et reproductible de la source ICP. La chambre de procédé de Pro ICP est en titane, qui fournit un environnement de gravure durable et efficace. Une fois la plaquette placée dans la chambre, le processus de gravure peut être initié en appuyant simplement sur quelques boutons sur le dessus de la table. Le PCI de STS Pro comprend également une alimentation en gaz de procédé avec des régulateurs de débit massique, un mélange méthane/azote/argon et un lecteur à fréquence variable pour réguler précisément la source du PCI et l'adapter à la charge. En conclusion, Pro ICP est un graveur/asher évolutif et polyvalent, bien adapté aux applications ICP (Inductively Coupled Plasma). Sa conception robuste, son contrôle précis et son large éventail de capacités de gravure en font un choix idéal pour les besoins de gravure générale et de précision.
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