Occasion STS Pro ICP #9222701 à vendre en France

STS Pro ICP (Inductively Coupled Plasma) etcher/asher est un équipement de gravure avancé dédié à l'industrie microélectronique. Il est utilisé dans le processus de fabrication de circuits intégrés et de panneaux d'affichage, ainsi que pour d'autres applications en nanotechnologie. Le système de gravure de haute précision est conçu pour fournir des résultats extrêmement précis sur une gamme de matériaux dont le polyimide. Pro ICP repose principalement sur le processus de gravure du plasma pour la concordance des résultats. Les composants principaux de l'unité comprennent le générateur de plasma, l'alimentation RF, la chambre de plasma, la chambre de verrouillage de charge et le matériel de support. Le générateur de plasma utilise une pompe turbomoléculaire à vide pour générer du plasma en induisant des courants électriques dans des molécules de gaz réactif. Cela génère des radicaux, des ions, des atomes et des particules énergétiques qui permettent le processus de gravure et d'amélioration des adhérences de surface secondaires au collage. Pour traiter les substrats, la machine utilise du gaz argon, qui est chauffé à haute température, afin d'activer la puissance RF nécessaire à la création du plasma. A l'intérieur de la chambre à plasma, le gaz affecté est refroidi et condensé au degré désiré. Selon le matériau traité, des températures très contrôlables de 150 ° à 700 ° C (302 ° à 1290 ° F) sont obtenues grâce à l'outil de contrôle thermique, donnant une flexibilité thermique complète et un contrôle dans la gravure de matériaux de haute performance. L'actif ICP STS Pro est également équipé d'un contrôle de pression puissant et précis, qui permet un contrôle précis des serrures de charge, des systèmes de purge et du pompage à sec. Cela offre un contrôle polyvalent et dédié tout en maintenant le plus haut niveau de sécurité. De plus, le modèle dispose d'un microscope électronique à balayage préalable sous vide pour la vérification des processus. Pro ICP est la solution idéale pour des processus de gravure précis et répétables pour des applications microélectroniques. Il offre un excellent contrôle de processus pour assurer une gravure uniforme sur une variété de matériaux. Ses caractéristiques précises et ses résultats fiables le rendent idéal pour une utilisation dans des applications à forte demande.