Occasion SUMITOMO SP012 #293776226 à vendre en France

SUMITOMO SP012 est un équipement de pointe conçu pour le traitement précis et efficace de divers matériaux dans la fabrication de semi-conducteurs, la recherche et le développement. Avec ses technologies de pointe et ses capacités de haute performance, SP012 offre un contrôle et une flexibilité inégalés dans les processus de gravure et d'ashing, ce qui en fait un outil précieux pour obtenir des résultats de haute qualité dans un large éventail d'applications. Caractéristiques clés et spécifications techniques : 1. Technologie des sources de plasma : SUMITOMO SP012 est équipé d'une source de plasma haute performance qui génère un plasma hautement réactif pour éliminer efficacement les photorésistants, polymères et autres matériaux organiques des substrats. La source de plasma assure une gravure/cueillette uniforme et cohérente à travers la surface du substrat, permettant un balisage et un contrôle précis du procédé. 2. Flexibilité du processus : SP012 offre un large éventail de paramètres de processus et d'options pour s'adapter à divers matériaux et applications. Les utilisateurs peuvent ajuster des paramètres tels que les débits de gaz, la pression, la température et la puissance RF pour adapter le processus de gravure/ashing aux exigences spécifiques, assurant des résultats optimaux pour différents matériaux et structures. 3. Traitement multi-étapes : SUMITOMO SP012 prend en charge les capacités de traitement multi-étapes, permettant aux utilisateurs d'effectuer séquentiellement différentes étapes de gravure/ashing avec des conditions variables pour obtenir des structures et des modèles d'appareils complexes. Le système peut être programmé pour passer automatiquement entre différentes recettes de processus, améliorant la productivité et l'efficacité du processus. 4. Gaz réactif Contrôle : SP012 dispose d'un contrôle précis des gaz réactifs utilisés dans le processus de gravure/ashing, permettant aux utilisateurs d'obtenir des réactions chimiques spécifiques et la sélectivité pour les matériaux ciblés. L'unité offre des capacités de contrôle du débit de gaz et de mélange pour créer des chimistries de gaz personnalisées pour différentes exigences de processus. 5. Détection d'Endpoint : SUMITOMO SP012 est équipé de systèmes avancés de détection d'endpoint qui permettent une surveillance en temps réel du processus de gravure/ashing. En détectant les changements dans les émissions plasmatiques ou d'autres indicateurs, la machine peut déterminer avec précision le moment où le critère d'évaluation désiré est atteint, en assurant des résultats de processus cohérents et en empêchant les surgravures/cendres. 6. Design de chambre : SP012 dispose d'un design de chambre robuste optimisé pour la performance et la fiabilité des processus. La chambre est conçue pour maintenir des conditions de processus stables, minimiser la contamination par les particules et assurer une production et une distribution efficaces du plasma pour des résultats de gravure/cueillette uniformes. 7. Interface conviviale : SUMITOMO SP012 est équipé d'une interface utilisateur intuitive qui simplifie le fonctionnement de l'outil et le contrôle des processus. L'actif offre une programmation de recette facile, l'enregistrement de données, et des fonctions de surveillance, permettant aux utilisateurs de configurer et d'exécuter des processus de gravure/ashing complexes avec facilité. Dans l'ensemble, le modèle SP012 etcher/asher est une solution de pointe pour des processus de gravure/ashing de haute précision et fiables dans la fabrication et la recherche de semi-conducteurs. Avec ses technologies de pointe, sa flexibilité de processus et son interface conviviale, SUMITOMO SP012 offre des performances et un contrôle supérieurs pour obtenir des résultats optimaux dans un large éventail d'applications.