Occasion TEGAL 1511E #9080737 à vendre en France
URL copiée avec succès !
ID: 9080737
Taille de la plaquette: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6"
Automatic optical emission type endpoint detection
Pumps
Chillers
208V, 3 Ph, 5 Wires, 30A, 60Hz.
TEGAL 1511E Asher/Etcher est un équipement multifonctionnel, semi-vide et de précision de traitement de couches minces conçu pour la production de circuits intégrés en ligne fine sur substrats. Ce système utilise une combinaison de technologies de gravure à vide, plasma et gaz réactif pour produire des dispositifs avec un contrôle dimensionnel précis et une précision de profil élevée. 1511E est entièrement automatisé et capable de techniques de masquage à base de membrane, de quartz et de spin-coating, ainsi que de permettre une gravure directe et non masquée du silicium. La chambre principale de TEGAL 1511E est une chambre en acier inoxydable de 8 « x8 », permettant la gravure de substrats aussi petits que 2 « x2 ». Les paramètres de processus de l'unité sont entièrement programmables et peuvent être ajustés à des niveaux aussi bas que 1 micron, selon le substrat et le procédé. Sa machine semi-vide abaisse la pression ambiante pour permettre la gravure directe des dispositifs sensibles, y compris les composants MEMS. 1511E dispose d'une pompe à vide turbomoléculaire à haut rendement, qui est capable d'atteindre des niveaux de vide aussi bas que 6x10-6 Torr. Cette faible pression permet de minimiser le temps de gravure et de graver des structures de ratio d'aspect plus élevées avec une grande précision de profil. Il utilise également une alimentation RF et un plateau polarisé turbo-pompé pour créer un environnement plasma amélioré par électrons, assurant une excellente sélectivité de gravure et la réduction des particules. TEGAL 1511E contributions de gaz source de RPX-200 ICP de traits de plus, en tenant compte de l'adjonction de gaz de processus supplémentaires pour la performance de gravure à l'eau forte optimale. L'outil peut fonctionner en mode de transfert seulement ou avec une chambre de processus optionnelle, permettant des paramètres de processus entièrement programmables pour interfacer avec les PLC et les logiciels de contrôle de processus. 1511E est idéal pour la production de ratio d'aspect élevé, structures à tolérance étroite et dispose d'une plate-forme d'exploitation simplifiée, interface utilisateur intuitive et des performances supérieures. Ses procédures d'entretien nécessitent une formation minimale et sa chambre est optimisée pour un remplacement facile des pièces d'usure. Il est conforme aux réglementations applicables en matière de sécurité et d'environnement et peut être configuré pour répondre à un large éventail de besoins des clients.
Il n'y a pas encore de critiques