Occasion TEGAL 211 #114351 à vendre en France

TEGAL 211 est un graveur et asher plasma à haute performance. Il s'agit d'un équipement entièrement automatisé, monobloc et conçu pour le contrôle de précision et l'uniformité des processus de gravure pour assurer le plus haut niveau de précision sur de longs cycles de production. Le composant principal du système est sa turbomachine à un étage de forte puissance, qui sert d'unité de contrôle de la pression assurant une gravure précise et cohérente à travers la plaquette. La chambre de gravure à dôme flottant, qui est séparée de la pompe, améliore l'uniformité et produit des taux de gravure élevés avec une faible hauteur de profil et des angles de flanc. La température de traitement de la plaquette est également contrôlée avec précision et la chambre est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 700 ° C 211 dispose également de TEGAL 211, multi-fonctions RF Power Machine qui permet un traitement stable et haute performance avec des résultats reproductibles. Cet outil de puissance supporte un plasma de haute densité et de faible accélération pour améliorer la gravure à haut rapport d'aspect. L'actif peut être réglé pour une uniformité optimale, un taux de gravure et une sélectivité de gravure. La précision de 211 est également rendue possible par sa gamme complète d'outils de mesure et de systèmes de contrôle, qui comprend l'alignement automatique, la focalisation automatique et le contrôle des gaz plasmatiques pour une répétabilité précise des processus, ainsi que ses systèmes de détection avancés pour les dommages subaquatiques, les effets de bord et la gestion de la durée de vie. Le modèle offre également une interface graphique intuitive basée sur une plate-forme avec des fonctionnalités de contrôle et de gestion des processus. Cela permet aux utilisateurs de stocker les recettes de processus, de surveiller les paramètres de gravure et de profiter de l'efficacité du traitement par lots. TEGAL 211 est idéal pour diverses applications, y compris la fabrication de photomasques d'un demi micron ou plus petits, la gravure diélectrique et métallique, la gravure métallique linéaire en série, la gravure à nanowire, la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, l'implantation de métaux, le stockage de données et le nettoyage des plaquettes sèches.