Occasion TEGAL 6550 #9155217 à vendre en France
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ID: 9155217
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
Reactive Ion Etcher (RIE) system, 8"
Platform: Rinse / Strip, through-the-wall, signal tower
PDM: Standard
System includes:
(2) Patented spectra plasma process modules
Standard ceramic electrostatic clamp (200 mm)
High temperature electrostatic clamp (200 mm)
(2) Integrated diode array optical analyzers
(2) Recirculating temperature control units
Vacuum cassette elevator loadlock
Core vacuum transport module with robot
Wafer aligner module
ICP Strip process module
Spin rinse / Dry process module
Atmospheric transport module with robot
Remote RF generator cabinet
Remote power distribution module
Integrated human interface and control system
Remote LCD interface module
Cleanroom signal tower (3 Color standard)
PM 1: Spectra 1.0, Special HT-ESC
MFC Type: MYKROLIS TYLAN FC2900
Gas 1: BCl3, 0-200sccm
Gas 2: Cl2, 0-50sccm
Gas 3: SF6, 0-50sccm
Gas 4: HBr, 0-50sccm
Gas 5: CF4, 0-50sccm
Gas 6: Ar, 0-200sccm
Gas 7: He (Water temperature control)
LF Generator: 600 watts
HF Generator: 1200 watts
Gas injection: Open ring
PM Turbo pump: 1000L/s
End point: Diode array
LE Temp range: Filtered house cooling water
PM 2: Spectra, special high vacuum mod's
MFC Type: MYKROLIS TYLAN FC2900
Gas 1: Spare
Gas 2: Spare
Gas 3: He, 0-200sccm
Gas 4: Spare
Gas 5: Ar, 0-100+sccm
Gas 6: Ar, 0-500+sccm
Gas 7: He (Water temperature control)
LF Generator: 300 watts
HF Generator: 1200 watts
Gas injection: Open ring
PM Turbo pump: 1000L/s
End point: Diode array
LE Temperature range: Noah precision: GALDEN PFPE HT170
PM 3: ICP Strip module
MFC Type: MILLIPORE TYLAN 2900
Gas 1: O2, 0-2000sccm
Gas 2: N2, 0-500sccm
Gas 3: He, 0-500sccm
PM4: DI Water rinse module
Gas 3: PM3 (strip)
Gas 4: PM2 (etch)
Gas 5: PM2 (etch)
Chambers:
ICP Cl2 / CFxHy Etch chamber (primary etch chamber)
ICP Low-voltage Ar mill "SOM"
Anti-corrosion treatment used with He / H2 or N2 / H2
Anti-corrosion water rinser
O2-Based asher
EDWARDS QDP-40,80
Gas reactor column EDWARDS M150
CE Marked
AC Supply: 400 V, 3 Phase, 50 Hz, 5 wire
2003 vintage.
TEGAL 6550 est un graveur/asher, conçu pour le traitement des plaquettes avant et arrière. Ce système offre un moyen très efficace et économique de créer des motifs tridimensionnels au sein de la couche de substrat. 6550 permet un traitement hautement sélectif, utilisant à la fois la gravure sèche et humide. Le graveur/asher présente un champ de vision tridimensionnel à l'intérieur du substrat, créant des motifs précis sans provoquer de distorsion physique de la couche. Il dispose également d'un déplacement mécanique haute résolution à 6 positions, idéal pour l'alignement automatique et manuel. TEGAL 6550 dispose d'une vitesse réglable pour la vitesse de déplacement du substrat, ainsi que d'un système de balayage laser pour suivre des motifs plus larges. L'etcher/asher utilise une plate-forme avancée contrôlée par ordinateur, avec des capacités de réseautage disponibles pour l'intégration dans d'autres systèmes. En outre, 6550 est équipé d'un logiciel intégré pour effectuer différentes tâches de gravure. Ce paquet est convivial et intuitif, ce qui permet aux utilisateurs de comprendre et d'optimiser la procédure de gravure. TEGAL 6550 est livré avec une grande variété de composants, y compris des cartes de conduite, des alimentations et des systèmes de refroidissement. Il offre également un générateur RF intégré et isolé pour augmenter le débit du processus de gravure. Cette fonctionnalité assure le niveau maximum de contrôle sur le processus de gravure. 6550 dispose également d'un certain nombre de fonctions de sécurité avancées, y compris une fonction de coupure automatique, qui éteint le système lorsqu'il n'est pas utilisé, ainsi qu'un commutateur de sécurité ETCHER intégré qui permet d'accéder uniquement aux utilisateurs agréés. Dans l'ensemble, TEGAL 6550 est un graveur/asher avancé conçu pour le traitement de substrat de haute précision. Il est très fiable et rentable, et est livré avec toutes les caractéristiques nécessaires pour une gravure précise et précise.
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