Occasion TEGAL 901e TTW #9248952 à vendre en France

TEGAL 901e TTW est un graveur/asher conçu pour la gravure et l'alliage de petites plaquettes et substrats. Il offre un traitement à chambre unique qui prend en charge les processus thermiques tels que le RTP (Rapid Thermal Processing), les dépôts assistés par ions (IAD) et les dépôts de films bio, des rendements élevés éprouvés et des temps de retournement rapides. 901e TTW dispose d'un four à tube en quartz de 12 zones avec des conceptions uniques de chicane pour maximiser l'uniformité et un excellent contrôle de pression pour minimiser les fuites. Le four a une enveloppe de procédé généreuse qui peut accueillir des substrats de 6 pouces avec jusqu'à 12 po. (300mm) uniformité latérale équivalente. Il offre également une excellente uniformité de température, une excellente répétabilité et un débit élevé. La 901e comprend une précision de positionnement x-y haute vitesse de 0,5 micron contrôlée par ordinateur et une source TEOS (Tetraethyl Orthosilicate) avancée pour le dépôt diélectrique haute densité. L'équipement est contrôlé par un progiciel haute performance conçu pour assurer l'automatisation et la flexibilité des processus, ainsi qu'une interface graphique conviviale pour une métrologie efficace des substrats. Le système dispose également d'une source de plasma intégrée avec la technologie plasma à tube de quartz pour fournir un dépôt plasma rapide et répétable de films cibles dédiés pour les processus de cendrage et de dépôt. Grâce à ses taux de dépôt élevés, l'unité est très adaptée aux dispositifs MEMS et logiques performants. TEGAL 901e TTW offre un temps de réponse rapide, une uniformité constante et un débit élevé. La conception innovante utilise une machine de gestion thermique avancée pour minimiser les temps de cycle et éviter les contaminations de surface. L'outil est très fiable et cohérent, et est rigoureusement testé avec chaque nouvelle recette de processus. Son fonctionnement à faible coût, associé à un succès avéré, fait de la 901e TTW un outil hautement souhaitable pour diverses applications de traitement des plaquettes et des substrats.