Occasion TEGAL 901e #68489 à vendre en France
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ID: 68489
Taille de la plaquette: 3" - 6"
etcher, 3"-6"
Includes:
ENI ACG-10 RF Generator (1000 Watt)
DEC monitor station
Chart recorder
Mass flow controllers with certified calibration sheet
Pressure controller with certified calibration sheet
Heated baratron with certified calibration sheet
Upgraded pressure manifold with Nupro valves
Upgraded gas manifold with Nupro valves
Top plate chuck interlock
Vacuum valve RF interlock
Restoration:
New Stepper motors
New Cylinders
NewUpper electrode
Chemically clean upper ceramic insulator
5” lower electrode (chuck)
Install new 5” Al chuck ring
Install new 5”super spatula assy’s
Install 5” super tine assy.
Install new quartz pins
Install new collar pins
Install new metering valves
Install new flexible gas lines
Rebuild chuck cylinder
Rebuild pin cylinder
Install new flow switches SST
Install new standoffs
Install new safety covers
Install new bellows HPS angle valve
Install new seals and O-rings, process chamber assy
Install bearings
Install new sapphire rod
Install new fiber optics
Install new sensor PCB
Install new tubing
Install new capacitive sensors
Install new RF cables
Install new variable caps
TEGAL chiller is available for an additional cost.
TEGAL 901e est un graveur/ascher ionique réactif, idéal pour les procédés nécessitant des processus anisotropes (verticaux) de gravure/gravure-et-cendres. TEGAL 901 E peut graver divers matériaux, dont le quartz, l'oxyde de silicium, le silicium polycristallin, l'oxyde d'aluminium, l'arséniure de gallium et le nitrure de silicium. Il est conçu pour être très précis et fiable, ce qui en fait un excellent choix pour ceux qui recherchent des résultats cohérents avec une maintenance minimale. 901e offre une variété de paramètres de processus et de recettes. Il peut graver à basse et haute température, avec des vitesses de gravure allant de 1 à 20 Å/min (selon l'application). Il est capable de fournir à la fois des capacités de gravure standard et profonde, la température maximale du substrat atteignant jusqu'à 500 ° C Il est également équipé d'une large gamme d'options de points d'extrémité, y compris le temps, l'épaisseur et la résistance. 901 E est fiable et efficace, utilisant un système intelligent de contrôle de fréquence pour assurer la précision et la répétabilité. Ses puissantes commandes de processus améliorent la profondeur et l'uniformité, tandis que son système d'alimentation en gaz réglable permet des vitesses de processus plus élevées. La technologie en mode pulsé utilisée dans TEGAL 901e assure des conditions de gravure ionique réactive contrôlée, ce qui se traduit par une plus grande sélectivité et un débit plus élevé. TEGAL 901 E est équipé d'une interface utilisateur graphique intuitive, permettant une configuration facile et rapide du processus. Il est livré avec un certain nombre de fonctionnalités pour améliorer la productivité, y compris la mise en place de processus plus rapide, l'amélioration de la surveillance et du contrôle, et le soutien à l'amélioration des processus. Ses systèmes avancés de commande de puissance et de tension fournissent une meilleure satisfaction et précision de gravure, et ses systèmes de sécurité avancés préviennent les fuites thermiques et d'autres scénarios d'accident. 901e est un graveur et asher plasma très fiable et efficace, ce qui en fait un choix idéal pour les applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Son interface utilisateur intuitive, combinée à ses capacités de processus polyvalents, en fait un excellent choix pour une utilisation commerciale et en laboratoire. Avec sa fiabilité, sa précision et ses protocoles de sécurité avancés, il est un excellent choix pour ceux qui exigent des performances fiables et des résultats cohérents.
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