Occasion TEGAL 901e #68489 à vendre en France

Fabricant
TEGAL
Modèle
901e
ID: 68489
Taille de la plaquette: 3" - 6"
etcher, 3"-6" Includes: ENI ACG-10 RF Generator (1000 Watt) DEC monitor station Chart recorder Mass flow controllers with certified calibration sheet Pressure controller with certified calibration sheet Heated baratron with certified calibration sheet Upgraded pressure manifold with Nupro valves Upgraded gas manifold with Nupro valves Top plate chuck interlock Vacuum valve RF interlock Restoration: New Stepper motors New Cylinders NewUpper electrode Chemically clean upper ceramic insulator 5” lower electrode (chuck) Install new 5” Al chuck ring Install new 5”super spatula assy’s Install 5” super tine assy. Install new quartz pins Install new collar pins Install new metering valves Install new flexible gas lines Rebuild chuck cylinder Rebuild pin cylinder Install new flow switches SST Install new standoffs Install new safety covers Install new bellows HPS angle valve Install new seals and O-rings, process chamber assy Install bearings Install new sapphire rod Install new fiber optics Install new sensor PCB Install new tubing Install new capacitive sensors Install new RF cables Install new variable caps TEGAL chiller is available for an additional cost.
TEGAL 901e est un graveur/ascher ionique réactif, idéal pour les procédés nécessitant des processus anisotropes (verticaux) de gravure/gravure-et-cendres. TEGAL 901 E peut graver divers matériaux, dont le quartz, l'oxyde de silicium, le silicium polycristallin, l'oxyde d'aluminium, l'arséniure de gallium et le nitrure de silicium. Il est conçu pour être très précis et fiable, ce qui en fait un excellent choix pour ceux qui recherchent des résultats cohérents avec une maintenance minimale. 901e offre une variété de paramètres de processus et de recettes. Il peut graver à basse et haute température, avec des vitesses de gravure allant de 1 à 20 Å/min (selon l'application). Il est capable de fournir à la fois des capacités de gravure standard et profonde, la température maximale du substrat atteignant jusqu'à 500 ° C Il est également équipé d'une large gamme d'options de points d'extrémité, y compris le temps, l'épaisseur et la résistance. 901 E est fiable et efficace, utilisant un système intelligent de contrôle de fréquence pour assurer la précision et la répétabilité. Ses puissantes commandes de processus améliorent la profondeur et l'uniformité, tandis que son système d'alimentation en gaz réglable permet des vitesses de processus plus élevées. La technologie en mode pulsé utilisée dans TEGAL 901e assure des conditions de gravure ionique réactive contrôlée, ce qui se traduit par une plus grande sélectivité et un débit plus élevé. TEGAL 901 E est équipé d'une interface utilisateur graphique intuitive, permettant une configuration facile et rapide du processus. Il est livré avec un certain nombre de fonctionnalités pour améliorer la productivité, y compris la mise en place de processus plus rapide, l'amélioration de la surveillance et du contrôle, et le soutien à l'amélioration des processus. Ses systèmes avancés de commande de puissance et de tension fournissent une meilleure satisfaction et précision de gravure, et ses systèmes de sécurité avancés préviennent les fuites thermiques et d'autres scénarios d'accident. 901e est un graveur et asher plasma très fiable et efficace, ce qui en fait un choix idéal pour les applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Son interface utilisateur intuitive, combinée à ses capacités de processus polyvalents, en fait un excellent choix pour une utilisation commerciale et en laboratoire. Avec sa fiabilité, sa précision et ses protocoles de sécurité avancés, il est un excellent choix pour ceux qui exigent des performances fiables et des résultats cohérents.
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