Occasion TEGAL 901e #75520 à vendre en France
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ID: 75520
Taille de la plaquette: 4"
Plasma Etcher, rebuilt Cassette to Cassette, Polysilicon / Silicon Nitride
Currently configured for 4" wafers
ENI 1000 Watt 13.56 MHz RF Generator
20 Process recipe capability
Non-friction spatula pick and place wafer transport
Leybold D65 oxygen service pump
Tegal Closed loop temperature controller
Chart recorder for endpoint trace monitoring
DEC Monitor and keyboard
Manuals included
Facility requirements
200-240 VAC selectable (50/60hz) single phase
RF Generator 200-240 VAC selectable (plugs into 901e)
Monitor 115VAC (plugs into 901e)
Chart Recorder 115VAC (plugs into 901e)
Vacuum pump 200-230 VAC 3-phase
Temperature controller 115 VAC
CDA or N2 regulated to 80 +/- 5 psi
N2 regulated 15 to 30 psi
Process gas’s regulated to 15+/- 5psig (Regulators currently installed on table)
O2 clean regulated to 10+/- 5psi
901e Vacuum pump connection KF-40 Flange
901e Cabinet exhaust connection 4” 100 cfm.
TEGAL 901e est un plasma Asher/Etcher de référence qui est devenu un outil important dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Développé par TEGAL Corporation, TEGAL 901 E est un équipement très efficace et fiable qui peut être utilisé pour une variété de processus de gravure et d'ashing. La 901e est composée d'une unité de base, d'une alimentation électrique, d'un contrôleur, d'un porte-échantillon réglable et d'une chambre. L'unité de base de 901 E est en alliage d'aluminium rigide et comprend un plateau supérieur et deux portes d'accès latérales. L'alimentation du système utilise une tension allant jusqu'à 1,000V et un courant maximal de 1000 mA. L'alimentation peut être configurée pour fournir différents profils de puissance donnant à TEGAL 901e la flexibilité nécessaire pour effectuer une gamme de processus de cendrage et de gravure. Le contrôleur de TEGAL 901 E permet une interface utilisateur facile et le contrôle sur l'unité, avec une interface graphique intuitive et des instruments de diagnostic. Le porte-échantillon est réglable pour permettre l'introduction de divers matériaux d'échantillonnage. La chambre permet une atmosphère inerte, permettant un contrôle maximal sur l'environnement du processus. La 901e peut être utilisée pour graver ou à la fois des surfaces de matériaux comprenant des couches minces, des métaux, des polymères, des semi-conducteurs et des diélectriques. La machine offre des temps de traitement rapides, permettant de graver ou de soutirer des échantillons en quelques secondes et de ne pas endommager les matériaux à la fin. En conclusion, la 901 E est un asher et un graveur multifonctionnel qui est très efficace et fiable. La TEGAL 901e est un outil important pour l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs.
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