Occasion TEGAL 901e #9228768 à vendre en France

TEGAL 901e est un graveur/asher conçu pour la fabrication de semi-conducteurs à l'échelle de la production. C'est une solution efficace et efficiente pour fabriquer des vias en silicium (TSV) à haut rapport d'aspect. Ce graveur/asher utilise des techniques de gravure avancées pour produire des vias très profonds avec des rapports d'aspect élevés tout en conservant une excellente finition de surface. TEGAL 901 E utilise la gravure ambiante refroidie cryogénique pour permettre un contrôle précis des temps de gravure et de la température. Ceci permet d'effectuer la gravure sans autres étapes de traitement post-processus telles que le broyage ou le polissage. Le débit est également optimisé en utilisant un champ de polarisation électrique sélectionné pour permettre des taux de gravure plus élevés. Ce graveur/asher réduit également les coûts en permettant l'application variable de produits chimiques de gravure par voie humide, ainsi que de différents mélanges de gaz, afin d'augmenter la sélectivité des gravures et de réduire les coûts. La 901e présente également une conception à géométrie variable avec la technologie passivée Silyléthane Plasma Desorption Source (PDES) qui élimine la nécessité de gaz de gravure spéciaux permettant un contrôle précis des profils de gravure. Cette conception permet également un réglage précis des taux de gravure pour des gravures à haut rapport d'aspect. Elle permet en outre de fixer avec précision les températures des plaquettes, ce qui permet d'affiner les vitesses de gravure et de réduire les contraintes thermiques. 901 E dispose également d'une configuration matérielle avancée comprenant un système d'étage automatisé et un processeur de plaque chaude. Cela permet une exécution précise des processus de gravure. Le système est également entièrement évolutif pour répondre à des processus de gravure avancés tels que la gravure ionique réactive profonde (DRIE). Dans l'ensemble, TEGAL 901e est un graveur/asher avancé, efficace et rentable conçu pour la fabrication de semi-conducteurs à l'échelle de la production. Sa gravure ambiante cryogénique et son champ de polarisation électrique sélectionné, ainsi que son design innovant et son matériel de pointe, sont des caractéristiques clés qui font de cette graveur/asher une solution idéale pour fabriquer des vias à haut rapport d'aspect à travers le silicium.