Occasion TEGAL 901e #9381612 à vendre en France

Fabricant
TEGAL
Modèle
901e
ID: 9381612
Taille de la plaquette: 3"-6"
Style Vintage: 2001
Plasma etcher, 3"-6", parts machine P/N: CS900-11590 (4) Gas input lines P/N: 99-172-003/F IMN-3 Chuck, P/N: CW1109-41101 P/N: 99-142-003/A DIS-3 RF Delivery, P/N: CR1124-01002 P/N: 99-173-008/C RFG-8 P/N: 99-128-006 Gas delivery blank, P/N: CG1145-02001 RCTN Chamber, P/N: CC1106-01302 P/N: 39-342-001 Press vacuum with ATM sensor, P/N: CG1146-01302 Spatula Dr, 4", P/N: CW1078-40401 P/N: 99-207-004/K MBE-4 P/N: 80-095-278 P/N: 26-041-039C Missing parts: Control computer Capacitance manometer Mass flow controllers RF Match unit Vacuum pump Manuals Cords / Cables Power supply: 200/208 V, Single Phase, 30 A, 50/60 Hz 2001 vintage.
TEGAL 901e est un équipement de gravure/cueillette très puissant conçu pour des performances supérieures dans les opérations de traitement des plaquettes. Ce système etcher/asher est une unité entièrement automatisée à haut débit avec une interface graphique et un ordinateur embarqué qui fournit des capacités de contrôle et d'analyse de processus dans un paquet modulaire. L'unité prévoit également une variété de procédés de gravure et de cueillette de substrats tels que le silicium, le FR4, le germanium et le GaAs. TEGAL 901 E est équipé d'une chambre de chargement de 120 mm et d'un port de chargement pouvant contenir jusqu'à 6 plaquettes par lot, facilitant ainsi un traitement rapide et efficace des plaquettes. En outre, la chambre offre une large gamme d'options, y compris un étage de chauffage par sublimation, une machine de visualisation d'échantillons et un régulateur de débit massique. L'outil de visualisation de l'échantillon combiné à l'imagerie panoramique assure un positionnement précis de l'échantillon pendant la gravure et le cendrage. La source de plasma 901e est basée sur la technologie ECR (résonance cyclotron électronique) multifréquence. Il est capable de générer une puissance RF allant de faible à haute, permettant une grande variété de conditions de gravure et d'ashing. La source de plasma est également équipée d'un mécanisme de cyclage rapide pour des temps de cycle de processus plus courts. La 901 E est également conçue pour être sûre et économe en énergie, ce qui la rend idéale pour la recherche, la ligne pilote et les applications industrielles. En utilisant l'interface utilisateur graphique et l'actif de traitement entièrement automatisé des plaquettes, TEGAL 901e simplifie les processus de gravure et d'ashing en permettant aux utilisateurs d'imprimer automatiquement les cartes des plaquettes et la séquence des programmes. Il permet aux utilisateurs de contrôler avec précision les paramètres de gravure, y compris la fréquence et la puissance, la température, la pression et la composition du gaz. De plus, avec le logiciel de la machine, les utilisateurs peuvent facilement suivre l'avancement du processus et analyser les résultats post-processus, en s'assurant que les résultats sont fiables, répétables et cohérents. TEGAL 901 E fournit à nos clients un outil de gravure/ashing fiable et puissant qui offre des performances supérieures dans le traitement des plaquettes et la stabilité à long terme pendant la durée de fonctionnement. La conception compacte et l'interface utilisateur intuitive rendent le traitement des plaquettes plus facile et plus efficace. De plus, la capacité du modèle à identifier et à surveiller les paramètres du processus permet aux utilisateurs de gérer avec précision les conditions du processus et de maintenir la qualité du produit.
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