Occasion TEGAL 903E #115926 à vendre en France
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ID: 115926
Taille de la plaquette: 4"
Plasma etcher, in-line single wafer, 4"
Can handle 3" to 6" wafers, currently configured for 4"
Cassette to cassette
Etches silicon dioxide, silicon nitrides, and polyamid es
Microprocessor control
ENI 1,000 Watt 13.56 MHz RF Generator
20 Process recipe capability
Process gases controlled by Tylan MFC’s
Non-friction spatula pick and place wafer transport.
LEYBOLD D65 oxygen service pump (optional dry pump available)
Two Tegal closed loop temperature controllers
DEC Monitor and keyboard
Non-friction spatula pick and place wafer transport
Wafer count: 834,009
Manuals included
CDA / N2 regulated to 80 +/- 5 psi
N2 regulated to 15 to 30 psi
Process gas's regulated to 15 +/- 5 psig
O2 clean regulated to 10 +/- 5 psi
903e vacuum pump connection: KF-40 flange
903e cabinet exhaust connection: 4", 100 cfm
Leak-back rate: 5.3 mTorr per minute
System: 200 to 240 VAC selectable, 50 / 60 Hz
RF generator: 200 to 240 VAC selectable
Monitor: 115 VAC
Vacuum pump: 200 to 230 VAC, 3-phase
Temperature controllers: 115 VAC
Demonstrable.
TEGAL 903E est un système de graveur/asher de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu pour remplacer des systèmes ICCP coûteux, qui peuvent souvent endommager des plaquettes délicates et nécessitent l'utilisation de produits chimiques durs afin de graver des motifs sur eux. Au lieu de cela, TEGAL 903 E utilise un faisceau d'ions pour graver des motifs précisément contrôlés sur la surface de la plaquette, en utilisant le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ce procédé est plus efficace que les autres techniques de gravure, ce qui se traduit par une meilleure uniformité, une productivité élevée et un gaspillage minimal de produits chimiques coûteux. 903E dispose d'un effecteur d'extrémité flexible et haute résolution avec trois axes linéaires. Cet effecteur d'extrémité est responsable du balisage et focalise le faisceau d'ions sur la plaquette afin de graver un motif désiré. Le système intègre également un ensemble d'outils de mise en place automatique, ainsi qu'une interface graphique utilisateur intuitive (UI) qui permet un fonctionnement plus facile. La 903 E est conçue pour graver jusqu'à huit plaquettes carrées de quatre pouces, chaque plaquette étant montée dans son propre porte-verre pour un positionnement précis. Ceci assure que seule la zone cible de la plaquette est gravée, et réduit la quantité de résidus inaccessibles qui peut se produire dans les systèmes plus faibles. L'utilisateur peut également personnaliser le profil du faisceau d'ions, ce qui lui permet d'adapter avec précision la profondeur et l'étendue du motif gravé. TEGAL 903E utilise également le mode avancé Argon ICP pour suivre les progrès de gravure en temps réel, avec le soutien d'un environnement sans poussière. Le système a des traits de sécurité intégrés et est conciliant avec la norme de SEMATECH OCSMS-95 et TREMPEZ 002 réglementations environnementales. TEGAL 903 E est un graveur/asher incroyablement polyvalent et fiable. Sa capacité à contrôler avec précision les modèles garantit qu'il est un choix idéal pour les processus complexes de fabrication d'IC, et son interface conviviale le rend accessible aux utilisateurs de tous les niveaux de compétence. Sa combinaison d'excellence technologique et de rentabilité en font le choix idéal pour la recherche et la fabrication de semi-conducteurs de pointe.
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