Occasion TEL / TOKYO ELECTRON 308 SCCM #9266666 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON 308 SCCM est un modèle de graveur/asher, conçu pour graver ou asher des films à partir de surfaces semi-conductrices. Cette machine utilise un procédé tout-en-un de dépôt sous vide, gravure plasma et nettoyage chimique. Il est capable de traiter jusqu'à 30 plaquettes individuelles et offre une homogénéité supérieure entre plaquettes avec des résidus d'oxyde négligeables. TEL 308 SCCM etcher/asher dispose d'une chambre de processus haute vitesse et de la capacité de contrôle automatisé, permettant un haut débit et le contrôle de processus répétable. Cette machine utilise des connexions robustes de distribution de gaz et des vannes plasma à haute performance pour fournir des processus fiables et reproductibles. Son mode Auto Test et Teach permet à l'opérateur d'établir un processus souhaité à partir d'une recette standard et/ou d'une confirmation visuelle du processus. Le procédé peut être contrôlé à l'aide de plusieurs variables indépendantes, dont la puissance RF, la pression, les débits et la composition du plasma. La machine est équipée d'un générateur RF de 10 kW avec des capacités de réglage de puissance pour la gravure et le cendrage. Ce générateur est conçu pour assurer une efficacité et une stabilité maximales du procédé, même dans des conditions de fonctionnement difficiles et une alimentation en gaz fluctuante. TOKYO ELECTRON 308 SCCM etcher/asher est en outre configuré avec des sources de plasma à double excitation fournissant une densité de plasma uniforme et étendant la gamme des procédés de gravure disponibles. Cette caractéristique réduit également le risque d'instabilités plasmatiques qui peuvent limiter le rendement et la qualité du procédé. Ses caractéristiques de sécurité haut de gamme aident à protéger l'opérateur contre les dangers potentiels. En résumé, 308 SCCM est un graveur/asher conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il offre une gamme de fonctionnalités dont un générateur RF de 10 kW avec des capacités d'accord, des sources de plasma à double excitation, un contrôle automatisé des processus et des connexions robustes de distribution de couplage de gaz. Cette machine est très fiable et offre des débits élevés, une uniformité cohérente entre les plaquettes et des résultats de processus supérieurs.