Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ALD #293820202 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ALD est un équipement de graveur/asher très avancé conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il combine la technologie TEL ALD (Atomic Layer Deposition) et l'expertise TEL dans le traitement du plasma afin de fournir une solution complète pour les applications de gravure et d'ashing dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système est équipé d'une gamme de caractéristiques innovantes qui permettent une gravure/cueillette précise et uniforme de divers matériaux utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. La technologie TOKYO ELECTRON ALD est un composant clé de l'unité, permettant un dépôt très contrôlé et uniforme de couches minces sur des substrats. Ceci est réalisé en exposant séquentiellement le substrat à des gaz précurseurs, qui réagissent avec la surface du substrat pour former une couche mince de film. Le procédé est répété plusieurs fois pour obtenir l'épaisseur de film désirée avec une précision atomique. Un des principaux avantages de la machine ALD est sa capacité à revêtir des structures 3D complexes avec des rapports d'aspect élevés. Ceci est particulièrement important dans la fabrication avancée de semi-conducteurs, où la miniaturisation des dispositifs nécessite un contrôle précis du dépôt de film sur des structures complexes. La technologie systemTEL/TOKYO ELECTRON ALD permet un revêtement conforme avec des caractéristiques de rapport d'aspect élevé, assurant une épaisseur de film uniforme sur tout le substrat. En plus des capacités TEL ALD, l'outil intègre également des techniques avancées de traitement du plasma pour les applications de gravure et d'ashing. La gravure par plasma est un procédé clé dans la fabrication de semi-conducteurs, utilisé pour la fixation et la structuration de matériaux sur le substrat. TOKYO ELECTRON ALD offre une gamme de sources de plasma et de chambres de procédés optimisées pour différentes applications de gravure/ashing, offrant une flexibilité pour répondre aux divers besoins des fabricants de semi-conducteurs. Le modèle est équipé de capacités avancées de contrôle des processus, y compris la surveillance en temps réel de paramètres clés tels que la température, la pression et le débit de gaz. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure/ashing, assurant des résultats cohérents et reproductibles sur plusieurs séries de production. L'équipement dispose également de recettes de processus automatisées et d'outils de gestion de recettes, permettant une configuration et une optimisation faciles des processus de gravure/ashing pour des matériaux et des structures spécifiques. Une autre caractéristique clé du système ALD est ses capacités avancées de manipulation des plaquettes. L'unité peut accueillir des plaquettes de tailles et d'épaisseurs variables, permettant une flexibilité maximale dans la fabrication des semi-conducteurs. La machine de manutention des plaquettes est conçue pour une production à haut débit, avec des temps de chargement et de déchargement des plaquettes rapides pour minimiser les temps d'arrêt et augmenter la productivité globale. Dans l'ensemble, l'outil TEL/TOKYO ELECTRON ALD représente une solution de pointe pour les applications de gravure et d'ashing dans la fabrication de semi-conducteurs. En combinant la technologie TEL ALD avec les capacités de traitement du plasma, l'actif offre un dépôt de film précis et uniforme sur des structures 3D complexes, permettant aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir des résultats de haute qualité avec un meilleur contrôle des processus et une meilleure productivité.