Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9253876 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K
ID: 9253876
Taille de la plaquette: 12"
Vertical LPCVD furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K est un équipement avancé de dépôt de couche atomique (ALD). Il s'agit d'un graveur-asher spécialement conçu pour être utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs performants tels que des transistors nanométriques et des matériaux haut de gamme. TEL Formula ALD High-K offre une répétabilité et une homogénéité de processus élevées, ainsi qu'une évolutivité élevée, tout en fournissant la structure la plus économique et les appareils les plus performants. Sa fiabilité, son homogénéité et sa fabrication à haut rendement permettent une production et une évolutivité à haut volume. TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K dispose d'un régulateur de débit de masse (MFC) amélioré avec une précision accrue, offrant aux utilisateurs un processus hautement répétitif et fiable. De plus, la surveillance de la température et l'évitement des dépôts muraux dans le réacteur permet un contrôle efficace et facile de la recette. Le système prend également en charge les grandes zones de dépôt, ce qui permet aux utilisateurs d'accroître leurs capacités de production. Formule ALD High-K offre une technologie de pointe qui est conçue pour répondre à de larges exigences d'application telles que les dispositifs de puissance avancés (APD), les matériaux ultra-high-k et d'autres applications dans la technologie ULSI. Certains des procédés les plus avancés disponibles dans TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K sont son dépôt de phase solide-alumine et Atomic Oxygen Process pour la génération de matériaux high-k. L'unité supporte également des paramètres de processus auto-configurables selon l'application. TEL Formula ALD High-K est équipé d'un module d'échappement TELCMIX innovant, doté d'une filtration à plusieurs étages avancée. Cette machine d'échappement efficace aide à maintenir les conditions optimales à l'intérieur de la chambre de traitement et contribue à réduire la contamination des particules. L'outil intégré de surveillance du gaz permet de contrôler en temps réel le débit et la pression du gaz et d'assurer la répétabilité du processus. L'actif est également pris en charge par le logiciel TraxRecipe de pointe TEL, qui aide les utilisateurs à créer des recettes personnalisées à l'aide d'une interface graphique facile à utiliser. TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K est conçu pour des applications qui nécessitent un contrôle précis et une répétabilité, y compris des matériaux haut-k et des transistors nano-échelles. Le modèle est adapté pour fournir un produit manufacturé rentable, fiable et à haut rendement, avec sa répétabilité et son uniformité de processus exceptionnelles. Cet équipement est idéal pour la fabrication de dispositifs et composants semi-conducteurs de haute performance.
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