Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Formula #293596090 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 293596090
Nitride furnace.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEL/TF) est un graveur/asher développé par TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) pour les procédés de gravure et de cendrage dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est basé sur la technologie unique de l'entreprise et fournit un processus de gravure/ashing fiable et efficace pour une large gamme de types d'appareils. TEL/TF etcher/asher est un équipement à vide qui utilise un certain nombre de technologies de pointe pour permettre une gravure/cueillette stable des architectures de précision. Il a une faible empreinte, ce qui le rend adapté à une variété de processus de gravure/cueillette. En outre, il dispose d'un système automatisé de contrôle de processus et de contrôle de mouvement avancé qui assure des paramètres de gravure/cendres uniformes sur l'ensemble du substrat. Pour le processus de gravure, TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher utilise un processus de gravure ionique réactive (RIE) qui peut graver les structures gravées de manière plus contrôlée qu'avec le processus RIE traditionnel. En outre, il a la capacité d'effectuer une gravure isotrope et anisotrope de divers matériaux et peut être utilisé pour réaliser des structures 3D. Le procédé de gravure utilise un plasma à couplage inductif (ICP) avec une unité intégrée de distribution de gaz qui est contrôlée par un contrôleur avancé. Pendant ce temps, le procédé de cueillette TEL/TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher utilise des lampes infrarouges encapsulées en téflon pour obtenir un plasma étanche aux gaz et chimiquement inerte répétable pour l'élimination des contaminants résiduels dans la gravure et d'autres procédés. La machine ashing peut ajuster avec précision la pression, la température et l'atmosphère de la chambre pour fournir des processus très cohérents et reproductibles. En outre, TEL/TF etcher/asher dispose d'une large gamme de transferts de cassettes électromécaniques et d'accessoires pour le chargement et la manutention automatisés du substrat. Il dispose également de systèmes avancés de chauffage et de refroidissement de plaquettes ainsi que de pompes à vide pour maintenir avec précision la température du substrat. TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher est conçu pour être polyvalent et peut être personnalisé pour répondre aux exigences des différents processus de gravure/ashing. Avec son large éventail de capacités et de technologies de pointe, TEL/TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher est une solution fiable et efficace pour les processus de gravure et de cendres dans l'industrie des semi-conducteurs.
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