Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9121065 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 9121065
Taille de la plaquette: 12"
Vertical LPCVD Furnace, 12" ALD High-K.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEF) est une plate-forme avancée de graveur/asher pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs, offrant une précision et un contrôle supérieurs du processus d'enlèvement des matériaux. La technologie TEF se compose d'un plateau de haute précision, d'une chambre à vide et d'un système de distribution de gaz. La plaque supérieure est en acier inoxydable 304L pour une résistance supérieure à l'abrasion et à la corrosion. La ventouse de haute précision sous la plaque permet un positionnement précis de la plaquette, même lorsque des charges importantes sont appliquées. La chambre à vide a une configuration unique qui permet un meilleur contrôle du processus sur les taux de gravure et l'uniformité. Le débit de gaz est régulé au sein d'un système de rétroaction en boucle fermée. Tous les paramètres de processus nécessaires peuvent être ajustés pour obtenir les résultats de processus souhaités. La plate-forme TEF etcher/asher présente un certain nombre d'avantages de performance, tels que le taux de gravure élevé et le rendement du processus, la répétabilité du processus, et la gravure uniforme. La ventouse de haute précision, d'un diamètre de 30 ou 50 mm, est conçue pour assurer un positionnement précis de la plaquette pendant le processus de gravure. Cela garantit des résultats uniformes et reproductibles. La chambre à vide présente également une pression et un débit de gaz uniformes pour assurer une gravure uniforme. En outre, la capacité d'ajuster les paramètres permet facilement un meilleur contrôle du taux de gravure, ce qui peut éventuellement conduire à un rendement de processus plus élevé. La plate-forme TEF est équipée de la technologie à double voie, qui fournit une large gamme de solutions de processus telles que la gravure classique et la gravure directionnelle, ainsi que la gravure métal-semiconducteur. Cette fonctionnalité est conçue pour être compatible avec un certain nombre de gaz de gravure et permet aux utilisateurs d'optimiser leurs processus en utilisant le graveur le plus efficace pour leur application. La plate-forme TEF intègre également un moniteur de profil tridimensionnel (TPM), qui aide à surveiller et à ajuster le processus de gravure en temps réel pour améliorer les performances du processus. Dans l'ensemble, la plate-forme TEL Formula est un graveur/asher avancé conçu spécifiquement pour maximiser l'efficacité et le rendement des procédés de fabrication de semi-conducteurs. Sa ventouse de haute précision, sa pression et son débit de gaz uniformes, sa technologie à double voie et sa TPM permettent aux utilisateurs de contrôler pleinement le processus de gravure pour des performances supérieures.
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