Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Indy-A-L #293587758 à vendre en France

ID: 293587758
Style Vintage: 2007
Vertical furnace 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy-A-L est un graveur, ou asher, utilisé pour des applications de gravure de substrat, de décollage et de métallisation. TEL Indy-A-L est basé sur une technologie avancée de gravure cryogénique à haut débit. Cette technologie permet une haute sélectivité des gravures, des rapports d'aspect supérieurs, une meilleure résistance à l'adhérence et une couverture uniforme des couches par rapport à de nombreuses technologies de gravure traditionnelles. TOKYO ELECTRON Indy-A-L est équipé d'une optique de pointe, y compris une caméra CCD haute résolution, une pompe à turbo-vide, et une source d'ions plasma qui fournit des conditions de traitement réglables optimales. Cette combinaison de l'optique et de la source permet d'améliorer le contrôle des processus et la variabilité pour les tâches de gravure et/ou de métallisation. Indy-A-L peut traiter des substrats d'une taille maximale de 8 « x 6 », ce qui le rend idéal pour les grandes applications de fabrication multi-points. Le système est capable de traiter un large éventail de matériaux tels que le cuivre, l'or, l'aluminium, le titane et de nombreux autres métaux. TEL/TOKYO ELECTRON Indy-A-L dispose également d'un design très efficace avec une chambre à très basse température pour optimiser le processus de gravure et de métallisation critiques en température. De plus, l'unité est équipée d'un suscepteur multi-segmenté qui offre une variété de techniques de levage et de revêtement, y compris le spin-coating, le spray-coating et le placage sans électrolyse. TEL Indy-A-L est livré avec plusieurs caractéristiques de sécurité, y compris un banc humide automatisé et une chambre de combustion. Avec TOKYO ELECTRON Indy-A-L etcher/asher avancé, les utilisateurs peuvent profiter de capacités de gravure avancées avec une entrée et une configuration minimales. Ses capacités de traitement de surface et de métallisation améliorent la couverture et l'uniformité des couches pour diverses tâches, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication de MEMS, la fabrication de LED et des procédés encore plus avancés. Sa polyvalence et son contrôle précis des procédés en font une solution idéale pour une grande variété d'applications industrielles.
Il n'y a pas encore de critiques