Occasion TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486 à vendre en France
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ID: 293763486
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2016
Vertical furnace, 12"
Process: Pyro
Air valve: CKD
VOS-56-101PT Heater
Process chamber
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Gases: HCL, H2, O2, N2
Load lock system
Storage
4-Color signal tower
Carrier transfer
Load port: Side FFU
FIMS Port
Wafer transfer
Boat elevator
Auto shutter
Manufold scavenger
(2) Boat transfers
Boat stage
Manifold
Utility box:
WAVES Controller
GFC Display
Operation panel
Data I/O
Hardware switch
Gas unit
Cooling unit
APC controller
Temperature controller
Vacuum line
Power box:
EMO Unit
Control board
Hardware switch
Transformer
SCR Unit with controller
N2 Purge unit
RF Power
Rapid cooling unit
Pump box
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Operating system: Linux
Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase
2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M est un graveur/asher conçu et produit par TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON), un fabricant leader d'équipements semi-conducteurs. L'etcher/asher offre des fonctionnalités avancées pour répondre aux exigences complexes de la fabrication de dispositifs avancés. TEL INDY PLUS B-M est un graveur/asher à plasma inductif (ICP) conçu pour optimiser la croissance et les performances des dispositifs semi-conducteurs. Il est équipé d'une source d'ICP précise et performante pour la production de dispositifs de haute précision de standard industriel. La source du PCI permet un processus de gravure intense et uniforme même à des taux de gravure élevés. Le graveur/asher est doté d'un générateur de plasma automatisé, d'une chambre de traitement, d'un équipement de contrôle de la chambre, d'un système à vide, d'une unité de distribution de gaz réactif, d'une pompe et d'un contrôleur. La machine à vide est équipée d'une configuration bi-pompe pour améliorer les performances et la fiabilité, ainsi que d'une barrière de diffusion de gaz et d'un capteur de vide qui optimisent la qualité du vide. L'outil de distribution de gaz réactif permet un contrôle précis des conditions de gravure pour des opérations de gravure précises. La chambre de procédés supporte de multiples orifices d'entrée pour l'introduction précise de gaz réactifs, et présente une caractéristique de compensation de non-uniformité variable pour l'amélioration de l'uniformité des procédés. Le haut de la chambre est équipé d'une vanne automatique d'arrêt automatique à 3 niveaux pour une sécurité accrue lors des expositions au plasma. TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M est également livré avec une large gamme d'options de processus avancées, y compris le chargement par lots de plaquettes, le refroidissement, la dégazage, le transfert de couches, et le contrôle des points d'extrémité (EPC). La fonction EPC permet un contrôle précis du point final du processus et permet aux ingénieurs du dispositif d'optimiser les performances du dispositif. L'actif de chargement de lots de plaquettes supporte jusqu'à quatre plaquettes, permettant des processus à haut débit. TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M etcher/asher est un excellent outil pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il offre des performances de gravure fiables et précises ainsi que des fonctionnalités de processus avancées pour la fabrication optimisée de l'appareil.
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