Occasion TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486 à vendre en France

ID: 293763486
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2016
Vertical furnace, 12" Process: Pyro Air valve: CKD VOS-56-101PT Heater Process chamber MFC, MFM: AERA MAIN / APC: CKD Gases: HCL, H2, O2, N2 Load lock system Storage 4-Color signal tower Carrier transfer Load port: Side FFU FIMS Port Wafer transfer Boat elevator Auto shutter Manufold scavenger (2) Boat transfers Boat stage Manifold Utility box: WAVES Controller GFC Display Operation panel Data I/O Hardware switch Gas unit Cooling unit APC controller Temperature controller Vacuum line Power box: EMO Unit Control board Hardware switch Transformer SCR Unit with controller N2 Purge unit RF Power Rapid cooling unit Pump box Gas subsystem: Gas supply unit Exhaust Vacuum line Operating system: Linux Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase 2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M est un graveur/asher conçu et produit par TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON), un fabricant leader d'équipements semi-conducteurs. L'etcher/asher offre des fonctionnalités avancées pour répondre aux exigences complexes de la fabrication de dispositifs avancés. TEL INDY PLUS B-M est un graveur/asher à plasma inductif (ICP) conçu pour optimiser la croissance et les performances des dispositifs semi-conducteurs. Il est équipé d'une source d'ICP précise et performante pour la production de dispositifs de haute précision de standard industriel. La source du PCI permet un processus de gravure intense et uniforme même à des taux de gravure élevés. Le graveur/asher est doté d'un générateur de plasma automatisé, d'une chambre de traitement, d'un équipement de contrôle de la chambre, d'un système à vide, d'une unité de distribution de gaz réactif, d'une pompe et d'un contrôleur. La machine à vide est équipée d'une configuration bi-pompe pour améliorer les performances et la fiabilité, ainsi que d'une barrière de diffusion de gaz et d'un capteur de vide qui optimisent la qualité du vide. L'outil de distribution de gaz réactif permet un contrôle précis des conditions de gravure pour des opérations de gravure précises. La chambre de procédés supporte de multiples orifices d'entrée pour l'introduction précise de gaz réactifs, et présente une caractéristique de compensation de non-uniformité variable pour l'amélioration de l'uniformité des procédés. Le haut de la chambre est équipé d'une vanne automatique d'arrêt automatique à 3 niveaux pour une sécurité accrue lors des expositions au plasma. TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M est également livré avec une large gamme d'options de processus avancées, y compris le chargement par lots de plaquettes, le refroidissement, la dégazage, le transfert de couches, et le contrôle des points d'extrémité (EPC). La fonction EPC permet un contrôle précis du point final du processus et permet aux ingénieurs du dispositif d'optimiser les performances du dispositif. L'actif de chargement de lots de plaquettes supporte jusqu'à quatre plaquettes, permettant des processus à haut débit. TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M etcher/asher est un excellent outil pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il offre des performances de gravure fiables et précises ainsi que des fonctionnalités de processus avancées pour la fabrication optimisée de l'appareil.
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