Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Tactras RLSA Poly #293813001 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras RLSA Poly est un graveur de pointe conçu pour la gravure de couches de silicium polycristallin, poly-SiGe et SiGe à partir de substrats GaAs. Ce graveur autoaligné à huit créatures a été développé par TEL. TEL Tactras RLSA Poly offre une grande précision et précision dans la gravure, ce qui en fait un graveur très recherché pour la recherche et le développement dans les procédés semi-conducteurs. TOKYO ELECTRON L'architecture unique de Tactras RLSA Poly permet la gravure de substrats complexes avec une précision et une uniformité inégalées. Cet graveur est basé sur le procédé de gravure ionique réactive (RIE), utilisant une combinaison de divers gaz, tels que l'oxygène, les radicaux et les composés fluor pour effectuer une gravure. Cependant, le Poly RLSA a été développé pour permettre des résultats de gravure optimisés avec une uniformité et une sélectivité améliorées, avec une faible défectivité de surface. Tactras RLSA Poly dispose d'une disposition multi-créatures, offrant une flexibilité dans la conception des gravures. Jusqu'à huit créatures différentes peuvent être incorporées dans le processus de gravure. La disposition multi-créatures permet de combiner différents processus de gravure, permettant d'incorporer des processus de gravure à la fois soustractifs et additifs. Ceci est particulièrement utile lorsque des formes complexes doivent être gravées dans le substrat. Le RLSA Poly permet également une surveillance précise des paramètres tels que la température de la cellule, les niveaux de pression et le débit de gaz, contribuant ainsi à sa précision et à sa répétabilité. L'etcher est également équipé d'un système de surveillance en temps réel qui permet la surveillance des données mobiles sur échantillon, telles que le potentiel et la distance, ce qui aide à contrôler l'uniformité des gravures. TEL/TOKYO ELECTRON Tactras RLSA Poly est un graveur extrêmement polyvalent, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications. Il s'adapte à des matériaux tels que le SiO2, le SiN, le Si3N4, la résine photosensible ainsi que les couches de silicium polycristallin, de poly-SiGe et de SiGe de substrats GaAs, utilisés dans les procédés semi-conducteurs. La combinaison de haute précision, d'uniformité et de polyvalence offerte par le RLSA Poly en fait l'un des meilleurs graveurs disponibles sur le marché aujourd'hui.