Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293603576 à vendre en France
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ID: 293603576
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2018
Polysilicon etcher, 12"
(2) AC Distribution boxes
Main frame:
Loader module
(3) Load ports
Vaccum transfer module:
Transfer module
(2) Loadlock modules
Process module:
PM1: Vesta NV3
PM2: Vesta NV3
PM5: RF-3
PM6: Vesta NV3
(3) HF RF Power supplies
(4) Gas boxes
(3) RF Generators
(3) TMP Controllers
2018 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 est un graveur/asher de plasma fiable, efficace et précis qui est utilisé pour un large éventail d'applications. TEL Tactras Vesta NV3 fonctionne en utilisant la technique « Plasma Enhanced Graching », qui utilise des ions à haute température, à haut champ électrique et à haute énergie. Cette méthode de gravure permet une gravure précise sur des motifs précis, ainsi qu'une large gamme de gravures/cendres profondes. TOKYO ELECTRON L'interface de Tactras Vesta NV3 est conviviale, permettant un contrôle précis et facile des paramètres de gravure. Il comprend également une interface graphique intuitive qui réduit les temps de cycle de production et améliore la productivité. Le graveur/asher supporte de multiples tailles de substrat, allant de 200mm à 300mm, ce qui le rend polyvalent et idéal pour une variété de procédés de production de semi-conducteurs. Le NV3 dispose également d'un module de four avancé qui aide à réduire le chauffage inégal et aide à la gravure uniforme. En outre, il dispose d'un système de pompe qui présente une consommation réduite de gaz, réduisant le coût associé aux processus de gravure. Le NV3 est équipé de SEGARD (Super Etching Gas Analysis Data Recording) qui permet un enregistrement précis de la distribution du gaz sur la surface de gravure. Cela permet d'améliorer la précision des motifs de gravure et d'assurer l'uniformité du processus de gravure. Certaines des caractéristiques offertes par le NV3 comprennent le contrôle automatique de la température du substrat, le contrôle automatique de la température de sortie et la formation automatique de tranchées. Ces caractéristiques sont importantes car elles contribuent à maintenir la température du substrat constante, ainsi qu'à améliorer l'uniformité des processus. Le NV3 est également capable de graver simultanément jusqu'à 10 plaquettes, augmentant considérablement la productivité et le débit. En conclusion, Tactras Vesta NV3 plasma etcher/asher est un graveur/asher fiable de haute précision utilisé dans une variété de procédés de production. De telles caractéristiques permettent une gravure uniforme, un débit plus rapide et une excellente uniformité sur une large gamme de tailles de substrat.
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