Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta #9221865 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta est un équipement de gravure/asher conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système est composé d'une chambre de procédé, d'une chambre à vide et d'une unité de contrôle. La chambre de procédé contient plusieurs couches de récipients de production, dans lesquels les gaz réactifs sont refroidis et mis en circulation. Les procédés de gravure/cueillette sont alors réalisés en alimentant le substrat en gaz. Le procédé de gravure/cueillette est réalisé à l'aide de plasma haute fréquence, généré par plusieurs générateurs RF, et est appliqué sur le substrat des quatre côtés. L'unité est conçue pour être un graveur ionique réactif monobloc (RIE), ce qui en fait un outil approprié pour des processus de gravure précis avec une précision de sous-microns. Il s'agit également d'une machine à vide, permettant aux utilisateurs de réaliser un nombre modeste d'étapes de processus tout en conservant la qualité du substrat dans son état de pré-processus. La chambre à vide, qui est reliée à la chambre de procédé, permet de réduire les fluctuations de vitesse de gravure dues à la contamination du gaz ambiant entre les recettes de procédé. De plus, l'outil est livré avec l'unité de commande TEL Tactras Vesta, qui fournit une interface conviviale, permettant aux utilisateurs de configurer et stocker facilement différentes recettes de gravure et d'ashing. L'utilisateur peut ajuster et stocker jusqu'à trois recettes de gravure et jusqu'à trois recettes de cueillette en fonction de leurs besoins spécifiques. L'actif offre également une meilleure stabilité du procédé, car il utilise un dispositif de refroidissement spécial qui aide à maintenir la température dans la chambre à vide, ainsi qu'un injecteur basse pression. Toutes ces caractéristiques font de TOKYO ELECTRON Tactras Vesta un excellent outil de gravure/asher pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. C'est un modèle convivial, avec de nombreuses fonctionnalités qui le rendent idéal pour les processus de micro-fabrication. L'équipement offre un meilleur débit et une meilleure uniformité de gravure du substrat, ce qui permet de maximiser les rendements, de réduire les coûts et d'améliorer la qualité des circuits intégrés.