Occasion TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC #9236838 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC
ID: 9236838
Taille de la plaquette: 6"
Oxide etcher, 6" Chamber / ATC.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC est un équipement de graveur/asher de pointe utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour déposer et retirer le matériau des surfaces semi-conductrices avec des résultats précis et reproductibles. Le système comprend une chambre centrale de traitement, appelée chambre Atom Transfer Chemical Vapor Deposition (ATCVD), ainsi que deux autres chambres de gravure (Reactive Ion Etching (RIE) et Dry Metal Etch (DME)). La chambre ATCVD est utilisée dans le dépôt de couches minces de matériaux tels que le silicium, le nitrure de titane et l'oxynitrure d'aluminium sur les plaquettes semi-conductrices, pour former des contacts électriques spécifiques et d'autres structures. A l'intérieur de la chambre ATCVD, un mélange gazeux contenant le matériau désiré s'écoule d'une bouteille de gaz haute pression. Le débit est contrôlé finement et réglé automatiquement en faisceau étanche par l'unité de surveillance du faisceau (BMS) de la chambre ATCVD. Ce BMS permet d'assurer le dépôt de films très minces avec une grande précision et répétabilité. Les chambres RIE utilisées pour la gravure des structures des surfaces des plaquettes semi-conductrices, telles que les connecteurs, les contacts et le câblage. Dans cette chambre, un mélange gazeux contenant un produit chimique réactif est introduit dans un environnement sous vide contrôlé, formant un champ plasmatique commercialement sélectionnable. Ce champ plasmatique attaque alors sélectivement le matériau indésirable tout en laissant intact le matériau désiré. La chambre DME est utilisée pour la gravure des métaux secs, c'est-à-dire l'élimination des couches métalliques sans l'utilisation d'un procédé chimique. Cette chambre utilise un plasma couplé inductivement qui permet l'élimination réactive de matière sans avoir besoin d'un graveur en phase vapeur. Les trois chambres offrent aux utilisateurs une vaste gamme de capacités de traitement avancées. En outre, TEL TE 5000 ATC est équipé d'une machine de sécurité avancée, ainsi que d'une interface utilisateur graphique avec un écran tactile. Cela permet une commodité dans la saisie des commandes et l'architecture compatible réseau de l'outil permet une intégration facile dans d'autres systèmes. Il prend également en charge divers modèles de recettes pour différentes tâches de gravure personnalisée pour augmenter encore sa flexibilité et son utilité. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON TE 5000ATC est un actif de gravure/aschring très avancé conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il fournit à ses utilisateurs des résultats cohérents, un contrôle précis, la sécurité et un contrôle facile, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement de toutes sortes de surfaces semi-conductrices.
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