Occasion TEL / TOKYO ELECTRON TE 580 #9137192 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON TE 580
ID: 9137192
Dry etching machines.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 580 est un équipement de gravure/asher conçu et fabriqué par TEL Ltd. Ce système est conçu pour des applications dans l'industrie des semi-conducteurs, y compris la photolithographie, la gravure par ions réactifs profonds (DRIE) et la gravure par plasma. L'unité est équipée d'une source de plasma multi-canaux, d'un actionneur à plaquette unique et d'un suscepteur rotatif à l'intérieur de la chambre de procédé. TEL TE 580 est très fiable et permet de traiter rapidement et avec précision les modèles à haute résolution, ce qui réduit les coûts et les délais d'exécution. TOKYO ELECTRON TE 580 est une machine entièrement intégrée comprenant une combinaison de matériel, de logiciels et de techniques de processus. Les chambres de procédés permettent la gravure simultanée de plusieurs plaquettes. L'outil dispose d'une fenêtre de paramétrage, avec une interface graphique facile à utiliser pour définir les paramètres de gravure rapidement et avec précision. Le TE 580 possède également un suscepteur rotatif qui permet un motif uniforme par rapport aux systèmes asher traditionnels. TEL/TOKYO ELECTRON TE 580 peut effectuer des gravures sèches et humides, et sa source de plasma multi-canaux utilise la technologie de résonance cyclotron électronique (ECR) pour produire efficacement le plasma. L'atout offre une grande flexibilité dans l'optimisation des lignes de base et des recettes de processus pour différents matériaux et applications. Le modèle est également équipé d'une capacité de vide ultra-élevé qui le rend idéal pour exécuter des processus tels que le rapport d'aspect élevé DRIE et la gravure plasma à distance. TEL TE 580 est conçu pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs pour des rendements, une qualité et des performances élevées. L'équipement est équipé de fonctions avancées de contrôle des processus qui assurent des processus reproductibles. Le système est capable de contrôler des paramètres de processus haut de gamme tels que la température, la puissance du plasma, le contrôle de pression, la température du substrat, la dose d'ions et l'énergie ionique. De plus, TOKYO ELECTRON TE 580 est équipé d'outils spécialisés pour l'analyse détaillée des processus afin de maximiser les rendements et de minimiser la variabilité des résultats de gravure. En résumé, TE 580 est une unité asher fiable et puissante pour l'industrie des semi-conducteurs. Sa source de plasma multi-canaux, son suscepteur rotatif et sa capacité avancée de contrôle des processus le rendent idéal pour des processus de gravure à haute résolution précis et reproductibles. Les caractéristiques d'analyse sous vide élevé et de procédé de la machine garantissent d'excellents résultats constants.
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