Occasion TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9253032 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K
ID: 9253032
Taille de la plaquette: 12"
Vertical LPCVD furnaces, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K est un graveur/asher polyvalent et avancé spécialement conçu pour répondre aux besoins des chercheurs en chimie des matériaux. Cette machine utilise la technologie de dépôt par couche atomique (ALD) pour déposer des couches minces avec une épaisseur uniforme et une stoechiométrie très précise. Ce graveur/asher avancé possède une résolution de 10 microns pour des tailles minimales, permettant un contrôle serré des processus et des résultats précis. TEL TELFORMULA ALD High-K est conçu pour la R&D et des applications industrielles, offrant une gravure rapide et efficace des substrats tels que les semi-conducteurs, les métaux, les photorésistances, et plus encore. L'asher/etcher assure une grande sélectivité et uniformité du dépôt avec un débit très élevé. Le système utilise un procédé TAFHigh-K propriétaire qui est capable de déposer des couches minces avec un contrôle très précis de l'épaisseur du film et du rapport des éléments dans le film. Les couches minces sont ensuite fournies avec une pureté ultra élevée, une énergie de surface faible, une constante diélectrique élevée et d'autres propriétés souhaitées. Le système High-K TELFORMULA ALD fonctionne de manière similaire à la sonochimie, en tirant parti de l'énergie thermique pour alimenter rapidement les molécules et obtenir une stoechiométrie désirée. TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K est conçu pour fonctionner en continu dans un environnement sous vide, avec une pression absolue maximale de 10 mTorr. Le système est équipé d'un spectromètre optique à haute résolution (OES) intégré pour analyser les propriétés des dépôts au fur et à mesure de leur préparation. L'OES utilise une technique dispersive d'énergie pour identifier les éléments présents dans les films déposés, ainsi que la stoechiométrie et l'épaisseur du film. Ce procédé permet également au graveur/asher de jauger l'homogénéité des couches de couches minces sur la surface du substrat. TELFORMULA ALD High-K dispose également de diagnostics intégrés qui permettent de surveiller les conditions de traitement afin d'obtenir des résultats optimaux. Ce graveur/asher avancé est optimisé pour une grande variété de substrats, allant des plaquettes de silicium aux couches de saphir, et offre une automatisation clé en main pour un fonctionnement facile et un temps d'arrêt minimal. De plus, la machine peut être modifiée pour accueillir des séquences de cendres personnalisées, ce qui la rend adaptée aux applications de recherche les plus exigeantes.
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