Occasion TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9313281 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K est un équipement de gravure et asher avancé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système est doté d'une gravure à haut K, à plusieurs chambres et asher, avec une variété de capacités, telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt en couche atomique (ALD) et le dépôt électrochimique (ECD). L'unité offre une précision et un contrôle inégalés pour des applications de haut niveau telles que la production de couches ultra-minces de matériaux diélectriques de haut K. TEL TELFORMULA ALD High-K offre une machine de gravure à plusieurs chambres haute K et asher avec une variété de capacités et d'options de contrôle. Le graveur/asher est conçu pour traiter plusieurs couches minces à la fois, avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la rugosité de chaque couche. L'outil est également capable de modeler précisément les couches dans les formes souhaitées en utilisant un masque de lithographie. De plus, l'actif est équipé d'une source de plasma multidirectionnelle qui permet un meilleur contrôle du processus de gravure/cendres. La gravure à plusieurs chambres haute K et cendrier offre un dépôt stable et uniforme tout en fournissant un procédé de gravure sélective et de cendres de haute qualité. Il a également une répétabilité de processus exceptionnelle et fournit aux utilisateurs de multiples niveaux de gravure et de cycles de cendres. En outre, le procédé de gravure/cendres de TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K peut être adapté aux besoins spécifiques du client. Le modèle est également équipé d'une variété d'outils de processus, y compris un moniteur d'ions in-situ, un analyseur spectrochimique in-situ, une application de résistance aux gravures et une inspection des particules atomiques. Le moniteur ionique in situ est un outil d'analyse avancé qui peut être utilisé pour mesurer avec précision la concentration des ions dans les systèmes de chambre, permettant aux utilisateurs d'obtenir un contrôle plus précis sur le processus. L'analyseur spectrochimique in situ, par contre, peut être utilisé pour contrôler les propriétés des couches de couches minces. L'application de résistance à la gravure peut être utilisée pour masquer précisément des zones spécifiques avant un procédé de gravure ou de cendres, tandis que l'outil d'inspection des particules atomiques est utilisé pour mesurer les petites particules qui peuvent rester dans la chambre après le procédé. TELFORMULA ALD High-K est un équipement de gravure/asher avancé qui fournit aux utilisateurs une précision, un contrôle et des capacités inégalés. Il offre une variété de capacités, telles que le dépôt chimique en phase vapeur, le dépôt en couche atomique et le dépôt électrochimique, et est équipé d'une source de plasma multidirectionnelle pour permettre un meilleur contrôle du processus de gravure/cendres. Le système offre également plusieurs niveaux de cycles de gravure/cendres, ainsi qu'une variété d'outils de processus. La gravure à plusieurs chambres haute K et asher fournit aux utilisateurs une précision et un contrôle absolus, ce qui en fait un choix parfait pour des applications exigeantes comme la production de couches ultra-minces de matériaux diélectriques haut K.