Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Trias ALD #9294449 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Trias ALD (Atomic Layer Deposition) est un graveur et asher qui est utilisé pour créer des films minces avec une épaisseur et une couverture précises sur une surface. Il est conçu pour déposer des couches minces d'une épaisseur allant d'une seule couche atomique jusqu'à plusieurs centaines de nanomètres, permettant un dépôt précis de couches minces au niveau moléculaire. TEL Trias peut s'occuper de diverses tâches de dépôt. Il offre un haut niveau de précision et de précision grâce à son niveau de contrôle qui comprend la température, la vitesse, la direction et le temps. TEL Trias ALD est équipé d'un certain nombre de contrôleurs, permettant un fonctionnement précis et cohérent. La fonction de serrure permet le chargement et le déchargement des plaquettes sans introduction de contaminants dans l'équipement. Il dispose également d'un contrôleur de mouvement multi-axes qui permet d'assurer un mouvement répétable et un positionnement précis des plaquettes. Le Trias comprend également un puissant système d'échappement et d'épuration qui aide à atteindre un niveau de pureté plus élevé dans le processus de dépôt. TOKYO ELECTRON Trias est équipé d'un panneau de gaz ALD avancé pour un contrôle précis du débit, de la température et de la pression du gaz. Cette unité comprend également un régulateur de température qui surveille et ajuste automatiquement la température de la plaquette lors du dépôt, assurant ainsi uniformité et qualité. TOKYO ELECTRON Trias ALD est également conçu avec des dispositifs de sécurité tels qu'une armoire fermée et un verrou de clé qui assure contre les accès non autorisés. Il dispose également d'un interrupteur d'arrêt d'urgence ainsi que de l'arrêt automatique en cas de défaillance de la machine. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON Trias est un graveur/asher avancé qui est équipé d'une gamme de caractéristiques et de fonctions pour garantir la précision du dépôt de couches minces au niveau microscopique. Il est conçu pour des procédés de dépôt précis et reproductibles, offrant un haut niveau de pureté et d'uniformité. Cet outil est idéal pour le dépôt de matériaux avancés en couches minces dans les secteurs des semi-conducteurs, des emballages plastiques et des produits médicaux.